[发明专利]一种青蒿素衍生物联合纳米金属溶液的抗菌喷雾及其制备方法

权利要求书

1.一种青蒿素衍生物联合纳米金属溶液的抗菌喷雾及其制备方法，其特征在于，按重量份计，包括组分A，防腐剂0.01-0.50份，去离子水，其中组分A包括：青蒿素衍生物2-8份，金属盐2-5份，修饰剂5-15份，还原剂8-56，余量为去离子水。

2.根据权利要求1所述的一种青蒿素衍生物联合纳米金属溶液的抗菌喷雾及其制备方法，其特征在于，青蒿素衍生物选自蒿甲醚、蒿乙醚、青蒿琥酯钠及二氢青蒿素中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种青蒿素衍生物联合纳米金属溶液的抗菌喷雾及其制备方法，其特征在于，金属盐选自银、铜、锌、铁、镍、钴离子盐中的一种。

4.根据权利要求1所述的一种青蒿素衍生物联合纳米金属溶液的抗菌喷雾及其制备方法，其特征在于，修饰剂选自壳聚糖、硫醇及其含硫衍生物、羧酸及其衍生物、胺类及酰胺类衍生物、有机磷中的一种。

5.根据权利要求1所述的一种青蒿素衍生物联合纳米金属溶液的抗菌喷雾及其制备方法，其特征在于，还原剂选自柠檬酸钠、抗坏血酸、硼氢化钠钾、氢化铝锂、酒石酸钠中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种青蒿素衍生物联合纳米金属溶液的抗菌喷雾及其制备方法，其特征在于，防腐剂选自布罗波尔、丙酸、二醋酸钠、ε-聚赖氨酸中的一种。

7.根据权利要求1所述的一种青蒿素衍生物联合纳米金属溶液的抗菌喷雾及其制备方法，其特征在于，以液相化学还原法为基础，具体制备方法步骤如下：

(1)按比例将金属盐溶解于去离子水中，搅拌至完全溶解备用；

(2)按比例将青蒿素衍生物溶解于去离子水中，搅拌至完全溶解备用；

(3)将适量修饰剂溶解于去离子水中，室温下用磁力搅拌一定时间；

(4)按比例往(3)中加入还原剂，室温搅拌一定时间；

(5)将(4)放入水浴锅中，剧烈搅拌，再加入(1)和(2)后反应一定时间即得。

8.根据权利要求7所述的一种青蒿素衍生物联合纳米金属溶液的抗菌喷雾及其制备方法，其特征在于，磁力搅拌速度为900-1200rpm，搅拌时间为2-10min。

9.根据权利要求7所述的一种青蒿素衍生物联合纳米金属溶液的抗菌喷雾及其制备方法，其特征在于，步骤(5)中的反应温度为60-100℃，反应时间为30-240min。