[发明专利]基于级联超颖表面全息术的旋转复用方法有效

专利信息
申请号: 202111475245.6 申请日: 2021-12-06
公开(公告)号: CN114167706B 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 黄玲玲;魏群烁;赵睿哲;李晓炜;王涌天 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G03H1/00 分类号: G03H1/00;G03H1/08;G03H1/22;G06F30/23
代理公司: 北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙) 11639 代理人: 王松
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 级联 表面 全息 旋转 方法
【说明书】:

发明涉及一种基于级联超颖表面全息术的旋转复用方法,属于微纳光学、全息显示和信道复用应用技术领域。该方法使用一种迭代的梯度下降优化算法获得参与级联的两张超颖表面全息图的相位分布,并将其通过沉积、光刻、剥离和蚀刻等过程用非晶硅纳米棒天线编码于不同的玻璃基底上。使用该方法进行全息加密时,只有将两张单层超颖表面全息图按照正确的相对面内旋转角度进行堆叠时,才能读取加密信息,能够应用于需要隐藏保密数据的信息安全,加密和防伪等领域。此外,旋转复用级联超颖表面系统的全息再现像可以被编码于离散且等距的角向空间位置之上,这使其具有了用作光学量角器的潜力。

技术领域

本发明涉及一种基于级联超颖表面全息术的旋转复用方法,属于微纳光学、全息显示和信道复用应用技术领域。

背景技术

超颖表面通常由亚波长尺寸的金属或介质纳米天线阵列构成,能够对光场的振幅、相位、偏振、波长和轨道角动量等特性进行高自由度的调制,在微纳全息,彩色印刷,光束整形,边缘检测,光学加密和防伪等领域有着广阔的应用前景。对于超颖表面来说,信息容量是非常重要的属性。作为信息的载体,超颖表面能够在亚波长尺度密集地存储光学信息,其信息容量越高,能够记录的信息就越多。为了提高超颖表面的信息容量,在不增加超颖表面所包含的像素数目的情况下,拓展出额外的信道用以记录更多目标图像的技术称为复用技术。目前比较常见的超颖表面复用技术包括合成谱法、空间复用、位置复用、偏振复用、波长复用和角度复用等,这些方法利用全息算法编写,超颖原子的排布方式、结构特征或波前调制机理等不同途径引入了新的自由度,大大增加了超颖表面的信息容量。

然而,对于单层超颖表面来说,由于其相对自身结构平面具有镜像对称性,其自由度的数量是有限的。另一方面,单层超颖表面只能通过设计并排布超颖表面上的超颖原子来提供额外的信息通道,而无法做到信息的物理拆分。近年来,多层超颖表面和级联超颖表面得到了迅速发展,并实现了许多前所未有的功能,其中集成化的多层超颖表面可用于实现多光谱消色差超透镜,图像微分,具有相位调制功能的非对称传输,与传播方向有关的差异化波前调制,与彩色印刷相结合的微纳全息等。而对于组成组件可以被替换、平移或旋转的级联超颖表面,则可用于处理光线传播轨迹,构建焦距可调的莫尔超透镜,实现动态波前调制等。

此外,为了促进级联超颖表面在加密防伪和信息安全等领域的实际应用,级联超颖表面全息术开始得到研究人员的重视。但是,现有的级联超颖表面信息容量仍然比较小,多功能性相对较差,在实际应用中受到诸多限制。

发明内容

本发明目的是为了解决现有的级联超颖表面信息容量比较小,多功能性相对较差的问题。本发明提供一种基于级联超颖表面全息术的旋转复用方法;该方法利用两张超颖表面全息图之间的相对面内旋转角度作为一个新的设计自由度,在每张超颖表面全息图能够再现其自身目标图像的同时,把多个处于不同相对面内旋转角度的级联超颖表面视为完全不同的光学系统,在其上对多个不同的全息再现像进行编码;即基于级联超颖表面重建出的多个不同的全息图像,能够通过将级联超颖表面系统中的一张超颖表面全息图绕其自身几何中心的法线旋转来切换。本发明提供的基于级联超颖表面全息术的旋转复用方法,能够借助相对面内旋转角度编码大量信息,赋予了级联超颖表面更大的信息容量和更强的多功能性。

本发明的目的是通过下述技术方案实现的:

本发明公开的基于级联超颖表面全息术的旋转复用方法,包括如下步骤:

步骤一、使用迭代的梯度下降优化算法高效且直接地获得构成旋转复用级联超颖表面系统的两张超颖表面全息图A和B的相位分布。所述的两张超颖表面全息图A和B各自对应一个彼此独立的再现像,且当两张超颖表面全息图以预设距离进行堆叠时,还能够根据不同的相对面内旋转角度再现出多个全新的再现像。

所述的使用迭代的梯度下降优化算法得到构成旋转复用级联超颖表面系统的两张超颖表面全息图A和B的相位分布,具体实现方法包括如下步骤:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京理工大学,未经北京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111475245.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top