[发明专利]一种负离子防爆膜及其制备方法

权利要求书

1.一种负离子防爆膜，其特征在于，所述负离子防爆膜包括依次相邻的第一负离子硬化涂层和第二负离子硬化涂层、基膜、安装胶层和离型膜；

其中，所述第一负离子硬化涂层和所述第二负离子硬化涂层中皆含有水性聚氨酯丙烯酸酯低聚物、光引发剂、负离子剂和水；

所述第一负离子硬化涂层的水性负离子的含量小于所述第二负离子硬化涂层中的水性负离子的含量；

所述第一负离子硬化涂层的水性负离子的粒径小于所述第二负离子硬化涂层中的水性负离子的粒径。

2.根据权利要求1所述的负离子防爆膜，其特征在于，所述第一负离子硬化涂层的层厚度为1μm～5μm；在所述第一负离子硬化涂层中所述负离子剂的粒径为20nm～60nm，优选粒径为20nm～40nm；所述负离子剂在第一负离子硬化涂层中的质量百分含量为0.01％～0.1wt％。

3.根据权利要求1所述的负离子防爆膜，其特征在于，所述第二负离子硬化涂层的厚度为1μm～5μm；在第二负离子硬化涂层中所述负离子剂的粒径为70nm～120nm，优选粒径为80nm～100nm；所述负离子剂在所述第二负离子硬化涂层中的质量百分含量为0.2％～0.5wt％。

4.如权利要求1所述的负离子防爆膜，其特征在于，所述负离子剂由天然矿物电气石经过超细化粉碎、包覆改性、离子交换掺杂制得。

5.根据权利要求1所述的负离子防爆膜，其特征在于，所述基膜材质为PET，所述基膜的厚度为20μm～200μm；优选基膜厚度为50μm～100μm；所述基膜的透光率在85％以上，优选所述基膜透光率在90％以上。

6.根据权利要求1所述的负离子防爆膜，其特征在于，所述安装胶层的材质为丙烯酸酯类压敏胶，所述安装胶层的厚度为10μm～20μm；优选所述安装胶层厚度为12μm～15μm；所述安装胶层的剥离力为5N～20N，优选所述安装胶层的剥离力为10N～15N。

7.根据权利要求1所述的负离子防爆膜，其特征在于，所述离型膜为用氟或涂硅离型剂处理的PET薄膜，所述离型膜的厚度为10μm～50μm，优选所述离型膜厚度为20μm～40μm；所述离型膜的离型力为0.05N～0.15N，优选所述离型膜的离型力为0.08N～0.12N；所述离型膜的残余粘着率大于85％，优选所述离型膜的残余粘着力大于90％以上。

8.根据权利要求1所述的负离子防爆膜，其特征在于，所述水性聚氨酯丙烯酸酯低聚物为水性脂肪族聚氨酯丙烯酸树脂，所述水性聚氨酯丙烯酸酯低聚物在负离子硬化涂层中的质量百分含量为15％～80wt％，优选质量含量为30％～60wt％。

9.如权利要求1所述的负离子防爆膜，其特征在于，所述光引发剂为水性安息香衍生物、水性二苯乙二酮衍生物和烷基芳酮衍生物中的一种，优选所述光引发剂为2-羟基-2-甲基-苯基丙酮；所述光引发剂在所述负离子硬化涂层中的质量百分含量为1％～10wt％，优选质量百分含量为2％～6wt％。

10.一种负离子防爆膜的制备方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

称量好原材料后，加入一定比例的去离子水或蒸馏水，用高速搅拌器搅拌均匀；

在基膜的一面采用辊涂或刮涂的方式涂布一层负离子硬化涂料，经烘干后，采用紫外(UV)固化，然后将其表面采用同种方式涂布第二层负离子硬化涂料，烘干后UV固化，从而制得带有负离子硬化涂层的基膜；

在基膜的另一面涂布安装胶，并与离型膜进行复合，从而制得负离子防爆膜。