[发明专利]光影渲染方法、装置、设备和存储介质在审

专利信息
申请号: 202111486636.8 申请日: 2021-12-07
公开(公告)号: CN114119852A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 张睦翊 申请(专利权)人: 上海完美时空软件有限公司
主分类号: G06T15/50 分类号: G06T15/50
代理公司: 北京太合九思知识产权代理有限公司 11610 代理人: 刘戈;孙明子
地址: 200092 上海市杨*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光影 渲染 方法 装置 设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种光影渲染方法,其特征在于,包括:

获取过场动画场景下待进行光影效果渲染的人脸模型;

对所述人脸模型中的顶点法线进行调整;

基于调整后的人脸模型进行光影效果渲染,以得到所述调整后的人脸模型在所述过场动画场景下的光影效果。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述人脸模型中的顶点法线进行调整,包括:

识别所述人脸模型中位于预设类型的人脸布线上的第一顶点集合;

确定所述人脸模型中除位于所述预设类型的人脸布线之外的其他人脸布线上的第二顶点集合;

分别确定所述第一顶点集合和所述第二顶点集合中各顶点各自对应的度数;

基于确定出的度数,对对应的顶点的法线度数进行调整。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述分别确定所述第一顶点集合和所述第二顶点集合中各顶点各自对应的度数,包括:

基于预设的人脸布线上的顶点和法线度数的对应关系,确定位于所述预设类型的人脸布线上的所述第一顶点集合中各顶点分别对应的第一度数;

基于所述第一顶点集合中各顶点分别对应的第一度数,计算位于所述其他人脸布线上的第二顶点集合中各顶点分别对应的第二度数;

所述基于确定出的度数,对对应的顶点的法线度数进行调整,包括:

将所述第一顶点集合中各顶点的法线度数调整为对应的第一度数,以及将所述第二顶点集合中各顶点的法线度数调整为对应的第二度数。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述基于所述第一顶点集合中各顶点分别对应的第一度数,计算位于所述其他人脸布线上的第二顶点集合中各顶点分别对应的第二度数,包括:

基于所述其他人脸布线与所述预设类型的人脸布线之间的位置关系、以及所述第一顶点集合中各顶点分别对应的第一度数,计算位于所述其他人脸布线上的第二顶点集合中各顶点分别对应的第二度数。

5.一种光影渲染装置,其特征在于,包括:

获取模块,用于获取过场动画场景下待进行光影效果渲染的人脸模型;

调整模块,用于对所述人脸模型中的顶点法线进行调整;

渲染模块,用于基于调整后的人脸模型进行光影效果渲染,以得到所述调整后的人脸模型在所述过场动画场景下的光影效果。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述调整模块,用于:

识别所述人脸模型中位于预设类型的人脸布线上的第一顶点集合;

确定所述人脸模型中除位于所述预设类型的人脸布线之外的其他人脸布线上的第二顶点集合;

分别确定所述第一顶点集合和所述第二顶点集合中各顶点各自对应的度数;

基于确定出的度数,对对应的顶点的法线度数进行调整。

7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述调整模块,用于:

基于预设的人脸布线上的顶点和法线度数的对应关系,确定位于所述预设类型的人脸布线上的所述第一顶点集合中各顶点分别对应的第一度数;

基于所述第一顶点集合中各顶点分别对应的第一度数,计算位于所述其他人脸布线上的第二顶点集合中各顶点分别对应的第二度数;

将所述第一顶点集合中各顶点的法线度数调整为对应的第一度数,以及将所述第二顶点集合中各顶点的法线度数调整为对应的第二度数。

8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述调整模块,用于:

基于所述其他人脸布线与所述预设类型的人脸布线之间的位置关系、以及所述第一顶点集合中各顶点分别对应的第一度数,计算位于所述其他人脸布线上的第二顶点集合中各顶点分别对应的第二度数。

9.一种电子设备,其特征在于,包括:存储器、处理器;其中,所述存储器上存储有可执行代码,当所述可执行代码被所述处理器执行时,使所述处理器执行如权利要求1-4中任一项所述的光影渲染方法。

10.一种非暂时性机器可读存储介质,其特征在于,所述非暂时性机器可读存储介质上存储有可执行代码,当所述可执行代码被电子设备的处理器执行时,使所述处理器执行如权利要求1-4中任一项所述的光影渲染方法。

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