[发明专利]一种具有二维电子气的单晶薄膜及其制备方法在审
申请号: | 202111490995.0 | 申请日: | 2021-12-08 |
公开(公告)号: | CN114197048A | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 乔梁;赵燕;冷华倩;丁翔;徐明辉 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学长三角研究院(湖州) |
主分类号: | C30B29/32 | 分类号: | C30B29/32;C30B23/02 |
代理公司: | 成都东恒知盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51304 | 代理人: | 李英 |
地址: | 313000 浙江省湖州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 二维 电子 薄膜 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种具有二维电子气的单晶薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)将氧化镧和氧化钛前驱体粉末均匀混合后研磨,并用压片机压靶,在马弗炉中高温烧结后得到LaTiO3靶材;(2)清洗并刻蚀SrTiO3基片;(3)将LaTiO3靶材和处理后的SrTiO3基片一同放入脉冲激光沉积系统,在合适的条件下生长LaTiO3单晶薄膜;(4)在真空环境下,获得不同温度下的相同厚度的LaTiO3薄膜;(5)控制不同的氧压,在薄膜生长时能达到的真空度从高真空降到低真空,每隔一个数量级生长一个薄膜,制得不同氧压下的LaTiO3薄膜。本发明通过曲线可以看出薄膜与STO界面之间都存在二维电子气,使薄膜表现出金属性。
技术领域
本发明属于脉冲激光沉积技术(PLD)以及钙钛矿氧化物薄膜制备领域,具体涉及一种具有二维电子气的LaTiO3单晶薄膜及其制备方法。
背景技术
在Mott绝缘体LaTiO3和带状绝缘体SrTiO3之间的二维电子气体(2DEG)在过去的十年中引起了广泛的研究,但这一现象的物理起源仍有争议。当外延薄膜LaAlO3/SrTiO3界面中的二维电子气自2004年被Ohtomo首次报道以来,二维电子气被大量研究,并且二维电子气在LaTiO3/SrTiO3(001)中也被发现,这更是引起了人们对LaTiO3外延薄膜研究的极大兴趣。大量的研究表明,在一般的钛酸盐中Ti均具有d0态,然而反铁磁Mott绝缘体LaTiO3中的Ti为d1态,尤其是当LaTiO3外延生长在(001)晶体学取向的SrTiO3衬底上时,会出现具有二维电子气的界面导电层,从而使LaTiO3表现出金属特性。
然而关于LaTiO3/SrTiO3(001)中Ti电子结构的变化还存在很多观点,一些人认为是由于外延应力引起Ti从3d1态的Mott绝缘体转变为3d0态的导体。而另一些人认为这种转变是外延界面处的电荷转移引起的界面效应。然而,对引起LaTiO3/SrTiO3(001)中Ti从3d1态的Mott绝缘体转变为3d0态的导体的根本原因依然处于争论当中。
然而,对不同生长温度、不同氧压下的LaTiO3/SrTiO3单晶薄膜的研究,以及这样的LaTiO3/SrTiO3薄膜中是否存在2DEG就目前所知还没有被系统研究报道。
发明内容
针对现有技术中存在的不足,本发明提供一种具有二维电子气的LaTiO3单晶薄膜及其制备方法。
为实现上述目标,本发明所采用的技术方案是:
一种具有二维电子气的单晶薄膜及其制备方法,包括以下步骤:
(1)将氧化镧和氧化钛前驱体粉末按比例均匀混合后研磨,并用压片机压靶,在马弗炉中高温烧结后得到LaTiO3靶材;
(2)清洗并刻蚀SrTiO3基片;
(3)将LaTiO3靶材和处理后的SrTiO3基片一同放入脉冲激光沉积系统,在合适的条件下生长LaTiO3单晶薄膜;
(4)在真空环境下,获得不同温度下的相同厚度的LaTiO3薄膜;
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