[发明专利]一种晒后修护凝露及其制备方法在审
申请号: | 202111495672.0 | 申请日: | 2021-12-09 |
公开(公告)号: | CN114028310A | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 郭军;王宏旭;李浩英 | 申请(专利权)人: | 大连双迪科技股份有限公司 |
主分类号: | A61K8/9794 | 分类号: | A61K8/9794;A61K8/9789;A61K8/49;A61K8/34;A61K8/60;A61K8/58;A61K8/42;A61Q19/00;A61Q19/08 |
代理公司: | 沈阳利泰专利商标代理有限公司 21209 | 代理人: | 吴维敬 |
地址: | 116635 辽宁省大连市经济技术*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 修护 及其 制备 方法 | ||
一种晒后修复凝露,属于化妆品技术领域,由山梨糖醇、赤藓糖醇、芦荟提取物、马齿苋提取物、透明质酸钠、核苷酸、尿囊素、泛醇、环五硅氧烷、聚二甲基硅氧烷、1,3‑丁二醇、EDTA二钠和去离子水制成。去离子水加入水相锅中,加山梨糖醇、赤藓糖醇、EDTA二钠、泛醇、尿囊素、1,3‑丁二醇至溶解,加热保温。然后物料抽入乳化锅加环五硅氧烷和聚二甲基硅氧烷,均质乳化后,加入芦荟、马齿苋提取物、透明质酸钠和核苷酸,调节物料pH6.0。使皮肤保湿清凉滋润,舒缓晒后炎症反应消除红肿修复受损皮肤、促进组织生长、抗氧化抗衰老。降低灼热感、瘙痒、红肿、刺痛和脱屑等不适症状,刺激表皮细胞生长,促进皮肤屏障愈合。
技术领域
本发明属于化妆品技术领域,特别是涉及一种晒后修复凝露及其制备方法。
背景技术
在日光强烈的时候,即使做了严密的防晒工作,也无法完全避免阳光的伤害。皮肤受到紫外线的照射后,晒伤处有明显灼热感、瘙痒、红肿、刺痛和脱屑等不适症状,且晒后的肌肤水分流失严重,屏障功能丧失,紫外线会促使细胞释放多种炎症介质,导致真皮血管扩张、组织水肿,激发炎症反应,令皮肤老化。
目前传统晒后修复产品在快速缓解皮肤发热方面,多采用酒精挥发降温和薄荷醇类物质来产生清凉的肤感,虽然解决皮肤发热的问题但是酒精却对日晒后皮肤造成了伤害,薄荷醇也加重了日晒过敏引起的炎症反应。
发明内容
基于此,本发明的一个目的是提供一种晒后修复凝露,本发明的另一个目的是提供其制备方法,是一种可以快速缓解皮肤发热,减少瘙痒、红肿、刺痛和脱屑等不适症状的晒后修复化妆品。
采用的技术方案是:
一种晒后修复凝露,主要是由山梨糖醇0.5-1.5份、赤藓糖醇2-5份、芦荟提取物3-7份、马齿苋提取物3-7份、透明质酸钠0.05-0.3份、核苷酸0.02-0.08份、尿囊素0.05-0.2份、泛醇1-3份、环五硅氧烷1-3份、聚二甲基硅氧烷0.5-1.5份、第一增稠剂Sepimax Zen(铵丙烯酰、甲基丙烯酰胺、月桂醇聚醚-4和甲基丙烯酸酯)0.55-1.25份、第二增稠剂SimugelEG(丙烯酸钠/丙烯酰二甲基牛磺酸钠共聚物、异十六烷、山梨醇酯80和山梨坦油酸酯)0.4-1.1份、1,3-丁二醇1-4份、EDTA二钠0.05-0.2份、去离子水70-80份、对羟基苯乙酮0.25-0.95份和桑普CHA150防腐剂(辛酰羟肟酸、1,2-己二醇和乙基己基甘油)0.2-0.7份制成的。
其中山梨糖醇、赤藓糖醇、芦荟提取物、马齿苋提取物、透明质酸钠、核苷酸、尿囊素和泛醇为功效成分,可以保湿消炎。
环五硅氧烷、聚二甲基硅氧烷、第一增稠剂Sepimax Zen、第二增稠剂Simugel EG、1,3-丁二醇、EDTA二钠和去离子水为基础成分。
对羟基苯乙酮(第一防腐剂)和桑普CHA150防腐剂(第二防腐剂)作为防腐剂。
其制作方法:取前述的原料:
A)将去离子水加入水相锅中,边搅拌边加入山梨糖醇和赤藓糖醇复配物、EDTA二钠、泛醇、尿囊素和1,3-丁二醇至完全溶解,加入第一增稠剂和第二增稠剂组合分散均匀后加热,加热至80~85℃,保温10min后备用。
B)将A)步骤得到的物料抽入乳化锅中,边搅拌边加入挥发性环五硅氧烷和聚二甲基硅氧烷,均质乳化3~10min后降温至40~45℃后,加入芦荟提取物、马齿苋提取物、透明质酸钠和核苷酸,调节物料pH值至6.0±0.5,加入防腐剂(对羟基苯乙酮和桑普CHA150防腐剂),搅拌均匀,按QBT 2874-2007检测合格后出料,灌装。
其优点在于:
本品采用借助环五硅氧烷和水份挥发来降低皮肤表面温度并采用山梨糖醇与赤藓糖醇复配使皮肤感受到清凉的肤感。
本发明优选山梨糖醇搭配赤藓糖醇可在提供最佳保湿功效的同时带来清凉的肤感
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