[发明专利]一种CuI/ZTO异质结紫外探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202111498278.2 申请日: 2021-12-09
公开(公告)号: CN114242813B 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 潘新花;刘云泽;叶志镇 申请(专利权)人: 浙江大学;浙江大学温州研究院
主分类号: H01L31/0296 分类号: H01L31/0296;H01L31/032;H01L31/0376;H01L31/109;H01L31/20
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 万尾甜;韩介梅
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 cui zto 异质结 紫外 探测器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种CuI/ZTO异质结紫外探测器的制备方法,其特征在于,该制备方法包括以下步骤:

1)清洗ITO衬底,获得表面洁净无杂质且无氧吸附的ITO衬底;

2)采用PLD方法在洁净的ITO衬底表面沉积ZTO层;

3)在ZTO层表面旋涂CuI前驱体溶液并进行退火得到CuI层;

4)在CuI层和ITO层表面蒸镀Au电极,得到CuI/ZTO异质结紫外探测器。

2. 根据权利要求1所述的CuI/ZTO异质结紫外探测器的制备方法,其特征在于,所述ZTO层的厚度为200~400 nm,所述CuI层的厚度为50~100 nm。

3.根据权利要求1所述的CuI/ZTO异质结紫外探测器的制备方法,其特征在于,所述步骤1)具体为:将ITO导电玻璃分别使用丙酮、乙醇和去离子水超声清洗,清洗结束后吹干表面,并放入等离子体清洗机中清洗,去除衬底表面杂质和氧吸附。

4. 根据权利要求1所述的CuI/ZTO异质结紫外探测器的制备方法,其特征在于,所述步骤2)具体为:准备ZTO靶材,将ZTO靶材和ITO衬底固定于脉冲激光沉积设备腔室相应位置,采用PLD方法在ITO衬底表面沉积ZTO薄膜;沉积完成后,取出衬底,在空气气氛中进行退火,退火温度为200~400℃,时间为1 h,在ITO衬底上得到ZTO层。

5. 根据权利要求1所述的CuI/ZTO异质结紫外探测器的制备方法,其特征在于,所述步骤3)具体为:将CuI粉末溶解于乙腈溶剂,在室温下搅拌12 h获得溶液A,然后对溶液A进行过滤,获得CuI前驱体溶液;

在步骤2)获得的ZTO层上旋涂所述CuI前驱体溶液,并进行退火;所述旋涂并退火进行1~2次,在ZTO层上得到CuI层。

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