[发明专利]一种复合材料及其复合基底

权利要求书

1.一种复合材料，其特征在于，包括依次沉积的光反射层、光吸收层、保护层，所述光吸收层的厚度为800~1000nm，所述光吸收层包含金属颗粒粒径为10~100nm的镍。

2.如权利要求1所述的复合材料，其特征在于，所述保护层包含氧化铟锡、氟掺杂二氧化锡中的至少一种。

3.如权利要求2所述的复合材料，其特征在于，所述氟掺杂二氧化锡中，氟的原子百分比为0.1~0.5%。

4.如权利要求1所述的复合材料，其特征在于，所述光反射层包括红外反射层，用于反射红外光；

所述光反射层包含金。

5.如权利要求1所述的复合材料，其特征在于，所述光反射层的厚度为50~100nm；

所述保护层的厚度为80~100nm。

6.一种复合基底，其特征在于，包含权利要求1~5任意一项所述复合材料。

7.如权利要求6所述的复合基底，其特征在于，还包括基底，所述反射层位于所述基底的至少部分表面；

所述基底包括玻璃；

所述基底的厚度为0.5~5mm。

8.一种如权利要求6~7任意一项所述复合基底的制备方法，其特征在于，包括：在基底上依次沉积光反射层、光吸收层、保护层，制得所述复合基底。

9.如权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述光反射层是通过蒸镀法沉积至所述基底的至少部分表面；

所述光吸收层是通过电镀法沉积至所述光反射层的至少部分表面；

所述保护层是通过磁控溅射的方式沉积至所述光吸收层的至少部分表面。

10.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，通过蒸镀法在所述基底的至少部分表面沉积光反射层时，蒸镀的功率为150~160W，蒸镀是在真空环境下进行，蒸镀速率为0.2~0.3 Å/s；

通过电镀法在所述光反射层的至少部分表面沉积光吸收层时，使用的电镀液中含有Ni（NO₃）₂、NiCl₂中的至少一种；

所述电镀液中还含有KCl、NaCl中的至少一种；

电镀时，电镀液的温度为40~45℃，电流为2.6~3.0 mA/cm²，沉积时间为1.5~2min；

磁控溅射时，温度为35~40℃，功率为70~80W，压强为0.5~0.8 Pa，时间为20~25mins；

磁控溅射时，载气氛围为氩气与氧气的混合气。

11.如权利要求10所述的制备方法，其特征在于，每100毫升电镀液中含有5.6~6.0gNiCl₂以及8.9~9.1g NaCl。