[发明专利]在传感器或显示器中使用的波导在审
申请号: | 202111498713.1 | 申请日: | 2017-02-27 |
公开(公告)号: | CN114184135A | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | R·夏泊德;赵慧婵;黄如康;白鹤丹;李硕 | 申请(专利权)人: | 康奈尔大学 |
主分类号: | G01B11/16 | 分类号: | G01B11/16;G01B11/255;G01L1/24;G02B1/00;G02B6/10;G02B6/42;B25J9/00;B25J13/08;B25J15/00 |
代理公司: | 北京市君合律师事务所 11517 | 代理人: | 毛健;顾云峰 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 传感器 显示器 使用 波导 | ||
1.一种光波导,其特征在于,所述光波导包括:
至少两种弹性体材料,所述至少两种弹性体材料包括弹性体包层材料和弹性体芯体材料,其中所述至少两种弹性体材料是有损耗的,并且随着所述光波导的变形的增加,更多的光被损失到环境中,其中所述光波导的极限伸长率大于50%。
2.根据权利要求1所述的光波导,其特征在于,所述光波导包括至少一个在所述光波导的外表面上的凹痕、被配置为使更多的光损失的粗糙表面,和/或吸光包层材料。
3.根据权利要求1所述的光波导,其特征在于,所述光波导包括多个凹痕,所述多个凹痕呈斑马线样式。
4.根据权利要求1所述的光波导,其特征在于,所述光波导具有芯体/包层界面粗糙度,所述芯体/包层界面粗糙度包括1纳米至500纳米尺寸的结构,所述1纳米至500纳米尺寸的结构被配置为导致散射并导致传播损失。
5.根据权利要求2所述的光波导,其特征在于,所述光波导的吸光包层材料具有大于10dB/cm的吸光度。
6.根据权利要求1所述的光波导,其特征在于,所述光波导的芯体材料具有2dB/cm或2.4dB/cm的传导损耗。
7.根据权利要求1所述的光波导,其特征在于,所述光波导限定U形或弯曲的形状,并可选的限定平坦区域或盘形区域。
8.根据权利要求1所述的光波导,其特征在于,所述光波导包括至少一个在所述光波导的外表面上的凹痕,其中所述光波导被配置为朝向一个方向弯曲以闭合所述至少一个凹痕。
9.根据权利要求1所述的光波导,其特征在于,所述光波导包括至少一个在所述光波导的外表面上的凹痕,其中所述至少一个凹痕的方向包括朝向弯曲方向、与弯曲方向相反或者它们之间的其他方向。
10.根据权利要求1所述的光波导,其特征在于,所述光波导包括至少一个在所述光波导的外表面上的凹痕,其中所述至少一个凹痕被布置在所述光波导的包层的至少一部分中。
11.根据权利要求2所述的光波导,其特征在于,取决于曲率,所述光波导的弯曲损耗率在0.2dB/cm到2.0dB/cm的范围内。
12.根据权利要求1所述的光波导,其特征在于,所述光波导的第一侧的外表面被粗糙化以产生一个表面轮廓,该表面轮廓与所述光波导的第二侧的外表面的表面轮廓不同。
13.一种传感器,其特征在于,所述传感器包括:
光源;
光电探测器;以及
光波导,所述光波导被布置在所述光源与所述光电探测器之间,其中所述光波导包括在所述光波导的外表面上的至少一个凹痕,其中所述光波导的第一点与所述光源光学地联通,所述光波导的第二点与所述光电探测器光学地联通。
14.根据权利要求13所述的传感器,其特征在于,所述光波导包括多个凹痕,其中所述多个凹痕中的每个凹痕的长度为0.5毫米至4毫米,每个所述凹痕与相邻凹痕间隔0.5毫米至4毫米。
15.根据权利要求14所述的传感器,其特征在于,所述凹痕自所述光波导的外表面的深度为100纳米至1毫米。
16.根据权利要求13所述的传感器,其特征在于,所述传感器被配置为感测曲率、力、应变、伸长或压力中的至少一项。
17.一种设备,其特征在于,所述设备包括:
根据权利要求13所述的传感器;以及
软致动器。
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