[发明专利]一种ITO蚀刻液及其制备方法、应用方法在审
| 申请号： | 202111517991.7 | 申请日： | 2021-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN114507527A | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 王维;潘春林;李自杰;林秋玉 | 申请（专利权）人： | 福建中安高新材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/00 | 分类号： | C09K13/00;H01L21/3213 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 李珊珊 |
| 地址： | 350003 福建省福州市鼓楼区软*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 ito 蚀刻 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种ITO蚀刻液，其特征在于，所述ITO蚀刻液包括以下重量份数的各组分：2-10份的草酸，0.01-3份的表面活性剂，0.01-3份的分散剂，以及水；其中，所述表面活性剂包括聚氧乙烯烷基二胺、聚氧乙烯烷基胺中的至少一种；所述分散剂包括二甘醇胺、聚乙二醇单辛基苯基醚中的至少一种。
2.根据权利要求1所述的ITO蚀刻液，其特征在于，所述表面活性剂还包括十二烷基二甲基苄基氯化铵、十六烷基三甲基溴化铵中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的ITO蚀刻液，其特征在于，所述ITO蚀刻液还包括金属螯合剂，所述金属螯合剂包括乙二胺四乙酸、柠檬酸、酒石酸中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的ITO蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液还包括无机氯化物，所述无机氯化物包括氯化铁、氯化钾、氯化铵中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的ITO蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液中包括以下重量份数的各组分：3-6份的草酸，0.01-1份的表面活性剂，0.01-1份的分散剂，以及水。
6.根据权利要求1-5任一项所述的ITO蚀刻液，其特征在于，所述ITO蚀刻液的pH值为1-3。
7.一种ITO蚀刻液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
将草酸、表面活性剂、分散剂及水按比例混合，得到ITO蚀刻液；所述ITO蚀刻液包括以下重量份数的各组分：2-10份的草酸，0.01-3份的表面活性剂，0.01-3份的分散剂，以及水；其中，所述表面活性剂包括聚氧乙烯烷基二胺、聚氧乙烯烷基胺中的至少一种；所述分散剂包括二甘醇胺、聚乙二醇单辛基苯基醚中的至少一种。
8.一种ITO蚀刻液的应用方法，其特征在于，包括以下步骤：
将如权利要求1-6任一项所述的ITO蚀刻液或者根据权利要求7所述的制备方法制得的ITO蚀刻液与表面设有ITO膜的基板接触，以将所述ITO膜蚀刻。
9.根据权利要求8所述的应用方法，其特征在于，所述蚀刻的时间为120s-150s，所述蚀刻的温度为35℃-45℃。
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