[发明专利]光控制结构在审

专利信息
申请号: 202111520204.4 申请日: 2021-12-13
公开(公告)号: CN114167603A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 邱敏轩;吴仰恩;杨朝闵;曾群安;郑玮铭 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G09F9/30
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 聂慧荃;郑特强
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 控制 结构
【权利要求书】:

1.一种光控制结构,包括:

一基板;

一第一透光层,位于该基板上;

多个第一遮光部,位于该第一透光层的顶面上,且沿着一第一方向排列,各该第一遮光部的宽度大于各该第一遮光部的厚度;

一第二透光层,位于多个所述第一遮光部上;及

多个第二遮光部,位于该第二透光层的顶面上,且沿着该第一方向排列,各该第二遮光部的宽度大于各该第二遮光部的厚度,且各该第一遮光部和各该第二遮光部在该基板的法线方向上部分重叠。

2.如权利要求1所述的光控制结构,其中多个所述第一遮光部、多个所述第二遮光部、该第一透光层及该第二透光层的整体具有一折射率,该折射率的数值为n,该第二遮光部及该第一遮光部之间沿该基板的法线方向具有一第一距离,该第一距离与两相邻的该第一遮光部的一间距的比值为a/b,且满足以下方程序:

3.如权利要求2所述的光控制结构,其中该第一距离和该第一遮光部的宽度的比值为a,且满足以下方程序:n2≥a2+12

4.如权利要求1所述的光控制结构,其中该第一透光层的材料为透明光刻胶,该第二透光层的材料为透明光刻胶,多个所述第一遮光部的材料为不透光金属或黑色矩阵光刻胶,多个所述第二遮光部的材料为不透光金属或黑色矩阵光刻胶。

5.如权利要求1所述的光控制结构,其中各该第二遮光部的宽度小于各该第一遮光部的宽度。

6.如权利要求1所述的光控制结构,进一步包括:

一第三透光层,位于多个所述第二遮光部上;及

多个第三遮光部,位于该第三透光层的顶面上,且沿着该第一方向排列,各该第三遮光部的宽度大于各该第三遮光部的厚度,且各该第三遮光部在该基板的法线方向上部分重叠于各该第一遮光部且部分重叠于各该第二遮光部。

7.如权利要求6所述的光控制结构,其中该第三透光层的材料为透明光刻胶,多个所述第三遮光部的材料为不透光金属或黑色矩阵光刻胶。

8.如权利要求6所述的光控制结构,其中各该第三遮光部的宽度小于各该第一遮光部的宽度。

9.如权利要求6所述的光控制结构,其中各该第三遮光部的宽度小于各该第二遮光部的宽度。

10.如权利要求6所述的光控制结构,其中多个所述第一遮光部、多个所述第二遮光部、多个所述第三遮光部、该第一透光层、该第二透光层及该第三透光层构成以沿着该基板的法线方向上隔开的一第一区及一第二区,该第一区的折射率不同于该第二区的折射率。

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