[发明专利]一种LED外延结构及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202111520260.8 申请日: 2021-12-13
公开(公告)号: CN114203870B 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 黎国昌;徐志军;江汉;程虎;徐洋洋;王文君;苑树伟 申请(专利权)人: 聚灿光电科技(宿迁)有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/12;H01L33/14;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 223865 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 led 外延 结构 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

本申请示出一种LED外延结构及其制备方法和应用。LED外延结构包括:第一多量子阱发光层和第二多量子阱发光层;其中,第一多量子阱发光层的第一shoes层厚度设置为5埃至20埃;第一well层厚度设置为25埃至40埃,In组分设置为0%至3%;第一cap层厚度设置为5埃至20埃;第一Barrier层厚度设置为50至150埃,Si掺杂浓度设置为1e17至1e18,Al组分设置为10至20%;第二多量子阱发光层的第二shoes层厚度设置为5埃至20埃;第二well层厚度设置为25埃至40埃,In组分设置为4%至6%;第二cap层厚度设置为5埃至20埃;第二Barrier层厚度设置为50埃至150埃,Si掺杂浓度设置为1e17至1e18,Al组分设置为10%至20%。本申请示出的技术方案,能够解决365nm~375nm波段LED会发黄光的问题。

技术领域

本申请涉及发光二极管(Light-emitting diode,LED)芯片外延生长技术领域,具体涉及一种LED外延结构及其制备方法和应用。

背景技术

UVA波段是紫外线波长划分的一部分,波长为320~420nm,代表波长为365nm~370nm,380nm~395nm,每个波段的紫外线具有独特性,如365nm波长时的灭蚊灯,在该波段的应用是其他波段无法代替的。UVA波段的LED是用电致发光的,采用电光直接转换的形式,能量转换损失少,待机时电力消耗几乎为零,因此,现有的UVALED具有非常大的市场前景与商业价值。

现有技术中,UVALED在其外延结构进行外延生长时,外延结构的中的氮化镓长晶时会产生缺陷,同时,长晶过程中由于碳、氧等杂质的掺入,会形成深能级发光,即,在使用波长为365nm的LED时,人眼看到的LED发光为黄光而并非紫光。

发明内容

本申请提供一种LED外延结构,能够解决365nm~375nm波段LED会发黄光的问题。

第一方面,本申请示出一种LED外延结构,包括:发光层,发光层包括:第一多量子阱发光层和第二多量子阱发光层;第二多量子阱发光层紧邻第一多量子阱发光层设置或者第二多量子阱发光层设置于第一多量子阱发光层中间;其中,第一多量子阱发光层包括由下至上依次外延生长的第一shoes层、第一well层、第一cap层以及第一Barrier层;其中,第一shoes层厚度设置为5埃至20埃;第一well层厚度设置为25埃至40埃,In组分设置为0%至3%;第一cap层厚度设置为5埃至20埃;第一Barrier层厚度设置为50至150埃,Si掺杂浓度设置为1e17至1e18,Al组分设置为10至20%;第二多量子阱发光层包括由下至上依次外延生长的第二shoes层、第二well层、第二cap层以及第二Barrier层;其中,所述第二shoes层厚度设置为5埃至20埃;第二well层厚度设置为25埃至40埃,In组分设置为4%至6%;第二cap层厚度设置为5埃至20埃;第二Barrier层厚度设置为50埃至150埃,Si掺杂浓度设置为1e17至1e18,Al组分设置为10%至20%。采用本实施例示出的技术方案,通过对发光层进行适当的组分配比以及适当的厚度设置,能够使采用本申请示出的发光层的LED外延结构发出的光为紫光而并非黄光,同时降低LED电压,提升老化性能。

在一些实施例中,第二多量子阱发光层紧邻所述第一多量子阱发光层上表面设置或者第二多量子阱发光层紧邻所述第一多量子阱发光层下表面设置。采用本申请示出的实施方式,为发光层在具体设置中提供更多的设置方式。

在一些实施例中,所述第一多量子阱发光层厚度为:500埃至1500埃,Si掺杂浓度为1e17至1e18,Al组分设置为10%至20%,In组分设置为0%至3%;所述第二多量子阱发光层厚度为100埃至500埃,Si掺杂浓度为1e17至1e18,Al组分为10%至20%,In组分为4%至6%;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于聚灿光电科技(宿迁)有限公司,未经聚灿光电科技(宿迁)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111520260.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top