[发明专利]一种产品检测方法及装置在审

专利信息
申请号: 202111521018.2 申请日: 2021-12-13
公开(公告)号: CN114202528A 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 张波;张二坤;刘凤龙;吕炜俊 申请(专利权)人: 北京创源微致软件有限公司
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T7/50
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 刘凤
地址: 100085 北京市海*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 产品 检测 方法 装置
【说明书】:

本申请提供了一种产品检测方法及装置,通过CCD相机获取待测电子产品的目标表面的产品图像以及深度信息;从产品图像中识别出目标产品区域;根据目标产品区域的深度信息,确定待测电子产品的目标表面的整体平均深度值;根据整体平均深度值和第一阈值范围,确定待测电子产品的目标表面的整体平整性是否满足平整性检测合格条件;若整体平整性满足平整性检测合格条件,则确定待测电子产品的目标表面的平整性检测合格。通过本申请,在不接触电子元器件的情况下,快速、准确的对电子元器件的表面平整性进行检测。

技术领域

本申请涉及电子元件技术领域,具体而言,涉及一种产品检测方法及装置。

背景技术

随着电子设备功能越来越多、体积越来越小,电子设备中所包括的电子元器件的体积也越来越小,密封防水、防潮要求等级变高,因此电子元器件的表面胶圈的使用越来越广泛。

现有的电子元器件的表面胶圈平面平整性检测通常采用撞针、打表、显微镜等传统的检测方式,但传统的检测存在以下问题:

检测不准确,并且可能损坏产品,现有的针对表面胶圈平面的平整性检测大多是采用接触式检测方式,在接触式检测时,由于电子元器件表面胶圈在检测时会受到压力,从而造成电子元器件表面胶圈的形态变化,压力过大还可能造成损坏;

检测时间长,现有的针对表面胶圈平面的平整性检测方式,由于需要操作检测仪器或者人工观察,一般需要较长时间才能完成对一个产品的检测;

问题产品漏检,由于针对单个产品的检测时间较长,在面对大数量的产品进行检测时,通常只进行抽检,无法对每个产品均进行检测。

发明内容

有鉴于此,本申请的目的在于提供一种产品检测方法及装置,以克服上述至少一种缺陷。

第一方面,本申请实施例提供一种产品检测方法,方法包括:通过CCD相机获取待测电子产品的目标表面的产品图像以及深度信息;从产品图像中识别出目标产品区域;根据目标产品区域的深度信息,确定待测电子产品的目标表面的整体平均深度值;根据整体平均深度值和第一阈值范围,确定待测电子产品的目标表面的整体平整性是否满足平整性检测合格条件;若整体平整性满足平整性检测合格条件,则确定待测电子产品的目标表面的平整性检测合格。

优选地,待测电子产品通过密封胶圈进行密封,待测电子产品的目标表面为密封胶圈所在的表面。

优选地,通过CCD相机获取待测电子产品的目标表面的产品图像以及深度信息的步骤包括:在待测电子产品被放置到承载台上之后,如果检测到针对待测电子产品的检测触发事件,则产生抽气泵驱动信号;将抽气泵驱动信号发送至抽气泵,以使抽气泵产生吸附力,来将待测电子产品吸附在承载台上;产生电机驱动信号,并将电机驱动信号发送至电机,以使电机产生驱动力,来驱动承载台沿预定方向移动至CCD相机的捕获范围内;产生图像捕获信号,并将图像捕获信号发送至CCD相机,以控制CCD相机捕获待测电子产品的目标表面的产品图像以及深度信息。

优选地,从产品图像中识别出目标产品区域的步骤包括:确定待测电子产品的产品型号;根据待测电子产品的产品型号,确定待测电子产品的目标表面上的密封胶圈所在位置;根据所确定的密封胶圈所在位置,将产品图像中包含密封胶圈的区域,确定为目标产品区域。

优选地,目标产品区域的深度信息包括待测电子产品的目标表面上的密封胶圈所在区域的第一胶圈深度信息,第一胶圈深度信息为密封胶圈所在区域内的每个检测点到第一基准面的第一深度值,第一基准面为放置待测电子产品的承载台所在的水平面,待测电子产品的目标表面的整体平均深度值为所有检测点到第一基准面的第一深度值的平均值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京创源微致软件有限公司,未经北京创源微致软件有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111521018.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top