[发明专利]一种机匣内部缺陷的空间定位方法及系统

权利要求书

1.一种机匣内部缺陷的空间定位方法，其特征在于，包括以下内容：

将机匣安装至旋转平台上；

固定机匣不动，利用X射线透照机匣进行胶片成像，以胶片的长度方向为X轴、宽度方向为Y轴、胶片长度方向的中点为原点建立平面直角坐标系，并获得缺陷在胶片投影面维度上的平面坐标；

改变X射线源和工件之间的相对位置并分别进行胶片成像，使得位置改变前后形成的两张胶片中缺陷影像产生相对位移，采用视差法计算得到缺陷在垂直于胶片投影面维度上的高度位置坐标；

基于缺陷的平面坐标和高度位置坐标定位出缺陷在机匣内的位置。

2.如权利要求1所述的机匣内部缺陷的空间定位方法，其特征在于，所述改变X射线源和工件之间的相对位置并分别进行胶片成像，使得位置改变前后形成的两张胶片中缺陷影像产生相对位移，采用视差法计算得到缺陷在垂直于胶片投影面维度上的高度位置坐标的过程具体为：

以胶片的长度方向为X轴、宽度方向为Y轴、胶片长度方向的中点为原点建立空间直角坐标系，固定机匣不动，X射线源在平行胶片平面的两个不同位置分别进行胶片成像，并记录下X射线源的移动距离和两次胶片成像中缺陷影像的移动距离，利用第一视差法模型计算得到缺陷在垂直于胶片投影面维度上的高度位置坐标。

3.如权利要求2所述的机匣内部缺陷的空间定位方法，其特征在于，所述第一视差法模型为：其中，Z表示缺陷在垂直于胶片投影面维度上的高度位置坐标，D表示两次胶片成像中缺陷影像的移动距离，S表示X射线源的移动距离，L表示X射线源的焦距。

4.如权利要求2所述的机匣内部缺陷的空间定位方法，其特征在于，X射线源采用垂直照射方式或者倾斜照射方式。

5.如权利要求1所述的机匣内部缺陷的空间定位方法，其特征在于，所述改变X射线源和工件之间的相对位置并分别进行胶片成像，使得位置改变前后形成的两张胶片中缺陷影像产生相对位移，采用视差法计算得到缺陷在垂直于胶片投影面维度上的高度位置坐标的过程具体为：

以旋转平台的旋转轴建立柱坐标系，固定X射线源对机匣进行水平透照，转动机匣，采用视差法基于机匣转动前后成像的胶片计算得到缺陷在柱坐标系中的空间位置坐标，从而得到缺陷在垂直于胶片投影面维度上的高度位置坐标。

6.如权利要求5所述的机匣内部缺陷的空间定位方法，其特征在于，所述采用视差法基于机匣转动前后成像的胶片计算得到缺陷在柱坐标系中的空间位置坐标，从而得到缺陷在垂直于胶片投影面维度上的高度位置坐标的过程具体为：

获取机匣转动前后两张胶片中缺陷影像移动轨迹的弧长、机匣的旋转角度、X射线源的焦距和胶片至旋转轴的距离，采用第二视差法模型计算得到缺陷在柱坐标系中的极径，从而得到缺陷在柱坐标系中的空间位置坐标。

7.如权利要求6所述的机匣内部缺陷的空间定位方法，其特征在于，所述第二视差法模型为：其中，R表示缺陷在柱坐标系中的极径，θ表示机匣的旋转角度，L表示X射线源的焦距，表示转动前后两张胶片中缺陷影像移动轨迹的弧长，r表示胶片至旋转轴的距离。

8.一种机匣内部缺陷的空间定位系统，其特征在于，包括：

平面坐标分析模块，用于在机匣安装至旋转平台上并固定机匣不动，利用X射线透照机匣进行胶片成像后，以胶片的长度方向为X轴、宽度方向为Y轴、胶片长度方向的中点为原点建立平面直角坐标系，并获得缺陷在胶片投影面维度上的平面坐标；

高度位置坐标分析模块，用于在改变X射线源和工件之间的相对位置并分别进行胶片成像，使得位置改变前后形成的两张胶片中缺陷影像产生相对位移后，采用视差法计算得到缺陷在垂直于胶片投影面维度上的高度位置坐标；

定位分析模块，用于基于缺陷的平面坐标和高度位置坐标定位出缺陷在机匣内的位置。