[发明专利]用于冷却电子部件的蒸汽腔室、电子装置和用于制造蒸汽腔室的方法在审

专利信息
申请号: 202111527862.6 申请日: 2021-12-14
公开(公告)号: CN114641179A 公开(公告)日: 2022-06-17
发明(设计)人: 布鲁诺·阿戈斯蒂尼;达尼埃莱·托雷辛;安德烈·彼得罗夫 申请(专利权)人: ABB瑞士股份有限公司
主分类号: H05K7/20 分类号: H05K7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 李辉
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 冷却 电子 部件 蒸汽 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于冷却电子部件(28)的蒸汽腔室(20),包括:

底盖(24),用于接收来自所述电子部件(28)的废热;

顶盖(26),被布置在所述底盖(24)上,其中所述底盖(24)和所述顶盖(26)被形成为使得在所述底盖(24)与所述顶盖(26)之间形成用于容纳液体的蒸汽空腔(22);

板条箱元件(32),用于向所述蒸汽腔室(20)提供机械强度,其中所述板条箱元件(32)具有至少一个隔室(34),所述至少一个隔室(34)由相互连接并且从所述底盖(24)延伸到所述顶盖(26)的至少三个侧面板(36)、以及面向所述顶盖(26)的顶部凹部(40)和面向所述底盖(24)的底部凹部(38)形成;以及

至少一个多孔柱(50),用于将所述液体从所述顶盖(26)传递到所述底盖(24),其中所述多孔柱(50)被布置在所述隔室(34)中,并且从所述底盖(24)经过所述底部凹部(38)及所述顶部凹部(40)延伸到所述顶盖(26)。

2.根据权利要求1所述的蒸汽腔室(20),其中所述多孔柱(50)的横截面面积小于所述隔室(34)的横截面面积,使得用于将所述液体从所述顶盖(26)引导到所述底盖(24)的开放式通道在所述多孔柱(50)与所述隔室(34)的所述侧面板(36)中的至少一个侧面板之间形成。

3.根据前述权利要求中任一项所述的蒸汽腔室(20),其中所述多孔柱(50)被布置在所述侧面板(36)中的至少一个侧面板上。

4.根据前述权利要求中任一项所述的蒸汽腔室(20),其中所述隔室(34)由至少四个侧面板(36)形成。

5.根据前述权利要求中任一项所述的蒸汽腔室(20),其中所述侧面板(36)中的至少一个侧面板具有侧凹部(42)。

6.根据前述权利要求中任一项所述的蒸汽腔室(20),其中所述多孔柱(50)具有多边形横截面。

7.根据前述权利要求中任一项所述的蒸汽腔室(20),其中

所述板条箱元件(32)包括对应隔室(34)的阵列,

相邻隔室(34)共享它们的侧面板(36)中的至少一个侧面板,以及

至少一个对应多孔柱(50)被布置在所述隔室(34)中的每个隔室中。

8.根据前述权利要求中任一项所述的蒸汽腔室(20),包括对应板条箱元件(32)的阵列,其中对应多孔柱(50)被布置在所述对应隔室(34)中。

9.根据前述权利要求中任一项所述的蒸汽腔室(20),包括至少一个穿孔板(70),所述至少一个穿孔板(70)平行于所述底盖(24)或平行于所述顶盖(26),并且具有用于每个板条箱元件(32)的至少一个板凹部(72),其中每个板条箱元件(32)被布置在所述对应板凹部(72)中,并且延伸经过所述对应板凹部(72)。

10.根据前述权利要求中任一项所述的蒸汽腔室(20),其中所述顶盖(26)包括至少一个顶部腔室(60),所述至少一个顶部腔室(60)在远离所述底盖(24)的方向上延伸,并且形成顶部空腔(62),其中所述顶部空腔(62)与所述蒸汽腔室(20)连通以交换液体和/或蒸汽。

11.根据权利要求10所述的蒸汽腔室(20),其中所述顶盖(26)包括至少两个对应顶部腔室(60),并且其中所述顶部腔室(60)的外壁通过至少一个冷却肋(64)彼此连接。

12.一种电子装置,包括:

电子部件(28),在被操作的同时生成热量;以及

根据前述权利要求中任一项所述的蒸汽腔室(20),其中所述蒸汽腔室(20)的所述底盖(24)与所述电子部件(28)热接触,以冷却所述电子部件(28),并且其中所述蒸汽腔室(20)的所述顶盖(26)背对所述电子部件(28)被布置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ABB瑞士股份有限公司,未经ABB瑞士股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111527862.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top