[发明专利]一种高沉积率的OVD反应装置和OVD反应方法

权利要求书

1.一种高沉积率的OVD反应装置，其特征在于，包括：

至少一个喷灯(1)，其设置于光纤预制棒(3)的径向底部，喷灯(1)的喷口朝向光纤预制棒(3)且喷射反应火焰；

反应容器(8)，罩设在光纤预制棒(3)外，其包括在竖直方向相对设置的进口(81)和出口(82)，所述喷灯(1)部分伸入进口(81)内；

给气装置，其包括设置在光纤预制棒(3)侧面的至少一个给气通道(2)，给气通道(2)与反应容器(8)连通，且每一个喷灯(1)对应一个给气通道(2)；

所述给气通道(2)的轴线朝向所述出口(82)方向倾斜，并且给气通道(2)喷出的降温气流落在光纤预制棒(3)不与反应火焰接触的表面；

所述给气通道(2)为多边形筒状结构；

其中部分侧壁为固定设置的固定板(21)；

其余侧壁为可相对于固定板(21)移动的活动板(22)；

固定板(21)和活动板(22)围设区域的截面积为给气通道(2)的出风面积，且出风面积随活动板(22)的移动增大或减小；

还包括用于控制活动板移动的控制器(4)；

当光纤预制棒(3)外径增大时，活动板(22)相对固定板(21)远离，给气通道(2)的出风面积增大；

还包括：

用于测量光纤预制棒(3)外径的外径测量仪(5)，其安装于反应容器(8)侧壁，且正对光纤预制棒(3)，所述外径测量仪(5)还与控制器(4)相连接；

所述给气装置还包括用于控制给气通道(2)气体流量的流量调节器(6)，其安装于给气通道(2)内；

所述流量调节器(6)还与控制器(4)连接；

还包括：

用于测量光纤预制棒(3)表面温度的红外测温仪(7)，其设置于反应容器(8)内壁，且正对光纤预制棒(3)；

所述红外测温仪(7)还与控制器(4)连接；

当红外测温仪(7)测得光纤预制棒(3)表面温度升高时，流量调节器(6)增大给气通道(2)的气体流量；

所述给气通道(2)喷出的气流方向与所述光纤预制棒(3)的转动方向相对。

2.一种基于权利要求1所述的一种高沉积率的OVD反应装置的OVD反应方法，其特征在于，包括如下步骤：

将喷灯(1)点燃，向光纤预制棒(3)的起始棒(31)喷射反应火焰，同时起始棒(31)开始旋转，在转动的起始棒(31)外部沉积反应火焰生成的玻璃微粒；

利用给气通道(2)朝向光纤预制棒(3)喷气，用于给光纤预制棒(3)的沉积体(32)表面降温。

3.根据权利要求2所述的OVD反应方法，其特征在于，包括：

所述给气通道(2)为多边形筒状结构；

固定板(21)和活动板(22)围设区域的截面积为给气通道(2)的出风面积，且出风面积随活动板(22)的移动增大或减小。

4.根据权利要求2所述的OVD反应方法，其特征在于，包括：

所述给气装置还包括用于控制给气通道(2)气体流量的流量调节器(6)，其安装于给气通道(2)内。