[发明专利]一种用于透明软标基材的彩色再转印膜有效
申请号: | 202111534499.0 | 申请日: | 2021-12-15 |
公开(公告)号: | CN114211894B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 汪鑫;吴兴泽;段文欣;唐国初 | 申请(专利权)人: | 湖南鼎一致远科技发展有限公司 |
主分类号: | B41M5/40 | 分类号: | B41M5/40;C08J7/04;C08L67/02;C09D167/00;C09D127/06;C09D7/42 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 何佩英 |
地址: | 413000 湖南省益*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 透明 基材 彩色 再转印膜 | ||
1.一种用于透明软标基材的彩色再转印膜,其特征在于,包括自上而下依次贴合设置的基底(1)、保护层(2)和图案接收层(3);
所述保护层(2)由以下重量份数的原料涂布而成:第一树脂50-90份和颜料10-50份;
所述图案接收层(3)由以下重量份数的原料涂布而成:第二树脂99份和消光粉1份;
所述第一树脂包括聚酯树脂、丙烯酸树脂、醛酮树脂、醇酸树脂、聚乙烯醇中的一种或两种以上的混合物;
所述第二树脂包括聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物和聚丙烯酸酯中的一种或两种以上的混合物。
2.根据权利要求 1所述的用于透明软标基材的彩色再转印膜,其特征在于,所述第一树脂还包括助剂。
3.根据权利要求 1 所述的用于透明软标基材的彩色再转印膜,其特征在于,所述基底(1)为聚丙烯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种。
4.根据权利要求 1 所述的用于透明软标基材的彩色再转印膜,其特征在于,所述基底(1)的厚度为12-125μm,所述保护层(2)的厚度为0.5-5μm,所述图案接收层(3)的厚度为1.5-15μm。
5.根据权利要求 1 所述的用于透明软标基材的彩色再转印膜,其特征在于,所述消光粉为气硅粒子,粒径为1-10μm。
6.根据权利要求 1-5 任一项所述的用于透明软标基材的彩色再转印膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:提供一基底(1),在所述基底(1)的一面打上电晕;
S2:将第一树脂50-90份溶于丁酮、甲苯溶剂中,然后加入颜料10-50份和少量助剂,研磨得到保护层涂料;
S3:将步骤S2得到的保护层涂料涂布在步骤S1的所述基底(1)打电晕一面上,涂布完成后烘干,得到保护层(2);
S4:将第二树脂99份溶于丁酮、甲苯溶剂中,然后加入消光粉1份,搅拌混合得到接收层涂料;
S5:将步骤S4得到的接收层涂料涂布在保护层(2)远离基底(1)一侧上,涂布完成后烘干,得到彩色再转印膜。
7.根据权利要求 6 所述的用于透明软标基材的彩色再转印膜,其特征在于,步骤S3中,烘干的温度为60-120℃。
8.根据权利要求 6 所述的用于透明软标基材的彩色再转印膜,其特征在于,步骤S5中,烘干的温度为90-150℃。
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