[发明专利]基于阵列孔板珠打研磨的细胞前处理装置及方法在审
申请号: | 202111538033.8 | 申请日: | 2021-12-15 |
公开(公告)号: | CN116262893A | 公开(公告)日: | 2023-06-16 |
发明(设计)人: | 许国旺;李杭;贾震;石先哲;赵金慧;胡春秀 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | C12M1/33 | 分类号: | C12M1/33;C12M1/00 |
代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 修睿;李洪福 |
地址: | 116000 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 阵列 孔板珠打 研磨 细胞 处理 装置 方法 | ||
1.一种基于阵列孔板珠打研磨的细胞前处理装置,其特征在于,包括倒膜胶垫、阵列式细胞密封机构、连接导杆和研磨仪,所述倒模胶垫设置于阵列式细胞密封机构上方,所述阵列式细胞密封机构的底部通过所述连接导杆与研磨仪相连,所述阵列式细胞密封机构包括阵列式的孔板,孔板的上下可拆卸地连接有封闭板,所述阵列式的孔板上盛装细胞和研磨颗粒。
2.根据权利要求1所述的基于阵列孔板珠打研磨的细胞前处理装置,其特征在于,所述阵列式的孔板包括96孔板。
3.根据权利要求2所述的基于阵列孔板珠打研磨的细胞前处理装置,其特征在于,所述倒膜胶垫的底部匹配96孔板设有对应对量、对应位置的凸起,所述倒膜胶垫的上方为平面。
4.根据权利要求1~3任一项所述的基于阵列孔板珠打研磨的细胞前处理装置,其特征在于,所述阵列式细胞密封机构包括96阵列孔板底部支撑、96阵列孔板上盖、96阵列孔板顶部支撑、高度支撑铜件和紧固螺丝,所述96孔板的下方设置96阵列孔板底部支撑,所述96孔板的上方扣接所述倒膜胶垫,所述倒膜胶垫的上方设置所述96阵列孔板上盖,所述96阵列孔板上盖的上方设置所述96阵列孔板顶部支撑,所述96阵列孔板顶部支撑和96阵列孔板底部支撑的四个角部设有螺孔,高度支撑铜件穿过螺孔,根据孔板的高度,调节铜件的长度,通过安装在高度支撑铜件上的紧固螺丝完成阵列式细胞密封机构的密封。
5.一种基于阵列孔板珠打研磨的细胞前处理方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1、密封胶膜的制作:基于96孔板制作与其匹配的模具,向其中注入两液混合硬化胶,等待一定时间,胶膜凝固,从模具中将密封胶件从模具中取出;
步骤2、填装细胞与研磨颗粒:将细胞通过移液枪分别装入96孔板中,所述96孔板为底部为扁平的圆筒形状,将细胞从顶端加入孔板后,放置直径小于1mm的陶瓷研磨颗粒;
步骤3、装置的装配:通过连接导杆将阵列孔板底部支撑和研磨仪连接在一起,对阵列式细胞密封机构进行组装,
步骤4、调节研磨频率与研磨时间保证细胞均匀处理:调节研磨频率与研磨时间,在使用过程中研磨时间根据细胞的尺寸,细胞的种类,加入细胞的数量进行综合判断。
6.根据权利要求5所述的基于阵列孔板珠打研磨的细胞前处理方法,其特征在于,所述步骤4中,对于细胞壁略厚直径大于5微米的细胞,选择频率高于50Hz研磨参数,单次研磨时间小于90秒,采用间歇式研磨,即研磨一定时间放置60秒;对于细胞壁不坚硬的细胞,采用时间更为持久,一次性的研磨,提高单次研磨的时间,选择频率40-50Hz,一次研磨时间大于120秒。
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