[发明专利]一种柔性透明圆锥体有序阵列构筑的SERS衬底制备方法

权利要求书

1.一种柔性透明圆锥体有序阵列构筑的SERS衬底制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1.先对剪好的PI薄膜进行超声波清洗，同时配制500nm规格的PS球液体，待PI薄膜清洗干燥完后备用；

步骤2.对清理干净的PI薄膜进行PS球转移，将PS球铺在PI薄膜的表面，备用；

步骤3.将铺好PS球的PI薄膜进行反应离子刻蚀，所用的气体为SF₆和O₂，其中，SF₆流量为40sccm，O₂流量为20sccm；

步骤4.对反应离子刻蚀过的PI薄膜进行磁控溅射镀膜。

2.根据权利要求1所述的柔性透明圆锥体有序阵列构筑的SERS衬底制备方法，其特征在于，步骤1中，PI薄膜的厚度为20μm。

3.根据权利要求1所述的柔性透明圆锥体有序阵列构筑的SERS衬底制备方法，其特征在于，步骤1中所用的500nm规格的PS球为掩膜，是通过改变反应离子刻蚀中的实验条件形成。

4.根据权利要求1所述的柔性透明圆锥体有序阵列构筑的SERS衬底制备方法，其特征在于，步骤3中，反应离子刻蚀所用的功率为150W。

5.根据权利要求1所述的柔性透明圆锥体有序阵列构筑的SERS衬底制备方法，其特征在于，步骤5中，磁控溅射镀膜中沉积的金属为Au和Ag，沉积时间分别为50s和100s。

6.根据权利要求1所述的柔性透明圆锥体有序阵列构筑的SERS衬底制备方法，其特征在于，还包括在扫描电镜下观察实验后的PI薄膜，得到纳米结构图像。

7.根据权利要求1所述的柔性透明圆锥体有序阵列构筑的SERS衬底制备方法，其特征在于，还包括将刻蚀180s的样品，浸入在10^-6mol/l ATP溶液中不同位置的拉曼光谱图。

8.根据权利要求1-7中任意一项所述的柔性透明圆锥体有序阵列构筑的SERS衬底制备方法，其特征在于，制得的SERS衬底，是一个拥有空心圆锥体有序阵列构成的柔性透明衬底。