[发明专利]一种低剖面介质天线在审

专利信息
申请号: 202111544836.4 申请日: 2021-12-16
公开(公告)号: CN114221119A 公开(公告)日: 2022-03-22
发明(设计)人: 周迪;杜超;吴芳芳;李睿韬;李达;王威;许昊;鲍子妍 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38;H01Q1/50;H01Q13/10
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 李红霖
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 剖面 介质天线
【权利要求书】:

1.一种低剖面介质天线,其特征在于,包括自上到下依次设置的低剖面辐射贴片结构(1)、中间层介质基板(3)及底层介质基板(4),其中,低剖面辐射贴片结构(1)上两个相对的端面上均设置有缝隙结构(2),所述缝隙结构(2)内设置有银涂层,中间层介质基板(3)与底层介质基板(4)之间设置有金属底板平面层(5),所述金属底板平面层(5)的中部开设有一字型的耦合缝隙,底层介质基板(4)的底部设置有微带馈线结构(6),其中,金属底板平面层(5)与微带馈线结构(6)组成馈电结构。

2.根据权利要求1所述的低剖面介质天线,其特征在于,中间层介质基板(3)及底层介质基板(4)的材质为树脂材料。

3.根据权利要求1所述的低剖面介质天线,其特征在于,馈电结构的材质为金属铜。

4.根据权利要求1所述的低剖面介质天线,其特征在于,低剖面辐射贴片结构(1)采用陶瓷线切割技术加工而成。

5.根据权利要求1所述的低剖面介质天线,其特征在于,所述银涂层在制备时,先将银浆涂抹于缝隙结构(2)上,再进行高温烧结。

6.根据权利要求1所述的低剖面介质天线,其特征在于,低剖面辐射贴片结构(1)的材质为高品质因数CTLA钙钛矿固溶体微波介质陶瓷材料。

7.根据权利要求6所述的低剖面介质天线,其特征在于,高品质因数CTLA钙钛矿固溶体微波介质陶瓷材料的相对介电常数为εr~44.8,品质因数为Q×f~43950GHz@3.67,Q=1/tanδ,谐振频率温度系数为TCF~0ppm/℃。

8.根据权利要求1所述的低剖面介质天线,其特征在于,低剖面辐射贴片结构(1)的介电常数为44.8,损耗角为8.3×10-5,厚度为1mm;

中间层介质基板(3)的厚度为1.524mm;

底层介质基板(4)的厚度为0.813mm。

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