[发明专利]一种反射板组、灯组模块、衬底处理设备及反射板组的调节方法在审
申请号: | 202111546164.0 | 申请日: | 2021-12-16 |
公开(公告)号: | CN114420585A | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 秦志坚;燕春;杨进 | 申请(专利权)人: | 江苏天芯微半导体设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H05B3/00;G02B7/182 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 张双红;张静洁 |
地址: | 214028 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反射 模块 衬底 处理 设备 调节 方法 | ||
1.一种用于衬底处理设备的反射板组,所述衬底处理设备包括:灯组模块和反应腔,所述反应腔用于容纳衬底,所述灯组模块设置在反应腔的上方和/或下方,用于加热所述衬底;所述灯组模块包括加热灯组和反射板组,所述加热灯组包括设置在内圈的内圈灯组和设置在外圈的外圈灯组,所述反射板组用于反射加热灯组的热辐射至反应腔内,其特征在于,所述反射板组包括:
内圈反射板组,用于反射内圈灯组的热辐射至反应腔内,
外圈反射板组,用于反射外圈灯组的热辐射至反应腔内,
分隔板,设置于内圈反射板和外圈反射板之间,用于将内圈灯组和外圈灯组发射的热辐射隔开,所述分隔板的沿长度方向延伸的厚度的中间线相对于竖直方向具有倾斜角度,所述倾斜角度大于零度,所述倾斜角度用于确保所述衬底上的温度分布的均匀性。
2.如权利要求1所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述反射板组呈环状,所述分隔板呈环状。
3.如权利要求2所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述内圈反射板组半包围所述内圈灯组,所述外圈反射板组半包围所述外圈灯组。
4.如权利要求2所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述分隔板包括第一表面及与第一表面相反的第二表面,所述第一表面为靠近外圈灯组的一面。
5.如权利要求1或4所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述分隔板还包括第一子板和第二子板,所述第一子板和第二子板之间具有间隙。
6.如权利要求5所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述分隔板还包括遮挡环,所述遮挡环与第一子板、第二子板的任意一者或两者的自由端连接。
7.如权利要求4或5所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述第一表面相对于竖直方向具有第一倾斜角度,所述第一倾斜角度用于独立地调节外圈反射板组的开口宽度,从而确保所述衬底上的温度分布的均匀性。
8.如权利要求4或5所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述第二表面相对于竖直方向具有第二倾斜角度,所述第二倾斜角度用于独立地调节内圈反射板组的开口宽度,从而确保所述衬底上的温度分布的均匀性。
9.如权利要求4或5所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述外圈反射板组包括第一环形侧壁板和第一环形板;所述内圈反射板组包括第二环形侧壁板、第二环形板和第三环形侧壁板;所述第一环形侧壁板、第一环形板、第二环形侧壁板、第二环形板依次首尾相连形成阶梯状,所述第三环形侧壁板的一端与第二环形板的尾端相连。
10.如权利要求9所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,分隔板的一端与所述第二环形侧壁板、第一环形板的二者或任一者连接。
11.如权利要求2所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述分隔板的最薄处厚度为2-30mm。
12.如权利要求1所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述倾斜角度为(0°,40°]。
13.如权利要求7所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述第一倾斜角度为(0°,40°]。
14.如权利要求8所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述第二倾斜角度为(0°,40°]。
15.如权利要求5所述的用于衬底处理设备的反射板组,其特征在于,所述间隙的最小处宽度为2mm~30mm。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造