[发明专利]一种纳米孔金属结构的制备方法

权利要求书

1.一种纳米孔金属结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、对具有双通孔结构的超薄阳极氧化铝薄膜和导电衬底进行亲水处理；

S2、将超薄阳极氧化铝薄膜转移至目标衬底表面，氧化铝薄膜与目标衬底形成紧密吸附；

S3、采用步骤S2的转移方法转移多层超薄阳极氧化铝薄膜，从而形成双通孔超薄阳极氧化铝薄膜叠层结构；

S4、使用电化学沉积法沉积金属材料，直至金属将叠层结构的空隙部分全部填充满；

S5、用腐蚀液溶解阳极氧化铝模板，进而在目标衬底上获得纳米孔金属结构。

2.根据权利要求1所述的一种纳米孔金属结构的制备方法，其特征在于，在步骤S1中，所述导电衬底包括金属材料、ITO导电玻璃以及FTO导电玻璃。

3.根据权利要求2所述的一种纳米孔金属结构的制备方法，其特征在于，在步骤S1中，在亲水处理的过程中，采用紫外光照射的方法对铜衬底进行亲水处理。

4.根据权利要求3所述的一种纳米孔金属结构的制备方法，其特征在于，在步骤S1中，所用超薄阳极氧化铝模板孔的中心间距为50nm～3μm，孔的直径为30nm～2μm，模板厚度为50nm～1μm。

5.根据权利要求4所述的一种纳米孔金属结构的制备方法，其特征在于，在步骤S2中，在丙酮中将超薄阳极氧化铝薄膜转移到铜衬底表面，等待丙酮完全挥发后，氧化铝薄膜与铜衬底形成紧密吸附。

6.根据权利要求5所述的一种纳米孔金属结构的制备方法，其特征在于，在步骤S3中，所述氧化铝薄膜层的数量为2～20层。

7.根据权利要求6所述的一种纳米孔金属结构的制备方法，其特征在于，在步骤S4中，所述金属材料为铜、镍、铬、金、银其中的一种或多种。

8.根据权利要求7所述的一种纳米孔金属结构的制备方法，其特征在于，在步骤S5中，所述溶解氧化铝薄膜所用腐蚀溶液为NaOH水溶液，所述NaOH的浓度为5wt％，温度为室温。

9.根据权利要求8所述的一种纳米孔金属结构的制备方法，其特征在于，在步骤S5中，所述溶解氧化铝薄膜所用腐蚀溶液为磷酸，所述磷酸的浓度为6wt％，溶液的温度为60℃。