[发明专利]晶片筛选方法在审

专利信息
申请号: 202111547477.8 申请日: 2021-12-16
公开(公告)号: CN114256108A 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 曹谢元;吴苑 申请(专利权)人: 华虹半导体(无锡)有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;B07C5/344
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 朱得菊;唐嘉
地址: 214028 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 晶片 筛选 方法
【说明书】:

一种晶片筛选方法,包括:提供待封装晶圆,所述待封装晶圆包括若干晶片;对若干所述晶片进行失效检测,在所述若干晶片中获取第一失效晶片和初始通过晶片;获取所述初始通过晶片在待封装晶圆中的第一位置信息;对若干所述晶片进行风险检测,在所述若干晶片中获取第一风险晶片;获取第一风险晶片在所述待封装晶圆中的第二位置信息;当所述第一风险晶片在所述待封装晶圆中的第二位置信息与初始通过晶片在待封装晶圆中的第一位置信息相同时,标记所述初始通过晶片为第二失效晶片。所述方法能够提高出货良率,降低报废率。

技术领域

发明涉及半导体测试领域,尤其涉及一种晶片筛选方法。

背景技术

晶圆上的产品需要晶片测试(Chip Probing,简称CP测试)完成后出货给客户,需保证晶片测试通过晶片的质量。

晶片测试旨在快速筛选出工艺异常的晶片,但无法有效筛选可能存在可靠性风险的晶片。具体地,晶片测试筛选出的工艺异常的晶片,其附近晶片测试通过的晶片可能存在可靠性失效的风险。

因此,工艺异常的低良晶圆,如何筛选出晶片测试通过但可能存在可靠性失效的晶片,该问题需要解决以提高低良晶圆出货信心、降低报废数量。

发明内容

本发明解决的技术问题是提供一种晶片筛选方法,以提高低良晶圆出货信心、降低报废数量。

为解决上述技术问题,本发明技术方案提供一种晶片筛选方法,包括:提供待封装晶圆,所述待封装晶圆包括若干晶片;对若干所述晶片进行失效检测,在所述若干晶片中获取第一失效晶片和初始通过晶片;获取所述初始通过晶片在待封装晶圆中的第一位置信息;对若干所述晶片进行风险检测,在所述若干晶片中获取第一风险晶片;获取第一风险晶片在所述待封装晶圆中的第二位置信息;当所述第一风险晶片在所述待封装晶圆中的第二位置信息与初始通过晶片在待封装晶圆中的第一位置信息相同时,标记所述初始通过晶片为第二失效晶片。

可选的,所述失效检测的方式包括短路检测或断路检测。

可选的,在所述若干晶片中获取第一失效晶片和初始通过晶片的方法包括:若所述晶片短路或断路,则判断所述晶片为第一失效晶片;若所述晶片未短路且未断路,则判断所述晶片为初始通过晶片。

可选的,所述风险检测的方式包括连接性测试、时序修正测试、电压修正测试、擦除测试、写入测试、读取测试或压力测试。

可选的,所述电压修正测试的方法包括:提供若干电压档位值;采用各电压档位值对若干所述晶片进行测试,直至所述晶片测试通过,获取各所述晶片测试通过时对应的电压档位值。

可选的,在所述若干晶片中获取第一风险晶片的方法包括:根据各所述晶片测试通过时对应的电压档位值获取第一风险晶片:若所述晶片测试通过时对应的电压档位值大于预设值,则判断所述晶片为第一风险晶片。

可选的,获取所述初始通过晶片在待封装晶圆中的第一位置信息的方法包括:根据初始通过晶片及其在待封装晶圆上对应的位置,获取所述初始通过晶片在晶圆上的第一分布,所述第一分布为所述初始通过晶片在待封装晶圆中的第一位置信息。

可选的,获取第一风险晶片在所述待封装晶圆中的第二位置信息的方法包括:根据第一风险晶片及其在待封装晶圆上对应的位置,获取所述第一风险晶片在晶圆上的第二分布,所述第二分布为第一风险晶片在所述待封装晶圆中的第二位置信息。

可选的,还包括:当所述第一风险晶片在所述待封装晶圆中的第二位置信息与初始通过晶片在待封装晶圆中的第一位置信息不同时,标记所述初始通过晶片为通过晶片。

可选的,获取通过晶片和第二失效晶片之后,还包括:回收报废第一失效晶片和第二失效晶片。

可选的,获取通过晶片和第二失效晶片之后,还包括:对所述通过晶片进行封装。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华虹半导体(无锡)有限公司,未经华虹半导体(无锡)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111547477.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top