[发明专利]溅射用高纯铝钕合金靶材及其制造方法

权利要求书

1.一种溅射用高纯铝钕合金靶材的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

a.将高纯铝和高纯铝钕中间金属块，按照特定的质量比例，投入真空熔炼炉；

b.在真空熔炼炉中，在真空5-6×10^-3Pa、1100℃温度下熔炼，充分搅拌15-30分钟；降温至700℃-800℃保温搅拌0.5小时，浇铸到高纯氧化铝内衬的真空水冷模中快速冷却，降温后去真空开模，得到铸锭；

c.取出的铸锭，切除头尾，铣掉表皮，以去除杂质和气孔，得到特定尺寸的浇铸方胚；

d.将胚料在500℃-600℃下保温12-24小时，均匀化处理；

e.将方胚加热至250℃-350℃后进行轧制，轧制总变形率75％-90％，前5道次的总变形率控制在15％-20％，道次变形率不超过10％，后续道次变形量20％-50％；

f.将轧制后的合金板胚进行退火处理，退火温度150℃-300℃，时间1-3小时；

g.将退火后的板胚水切割去边，机加工至合适尺寸，绑定至铜背板，得到最终铝钕合金靶材。

2.根据权利要求1所述的溅射用高纯铝钕合金靶材的制造方法，其特征在于：所述步骤a中，使用纯度大于99.999％的高纯铝和20wt％Nd的高纯铝钕中间合金为原材料，铝和铝钕中间合金比例为100：35。

3.一种溅射用高纯铝钕合金靶材，其特征在于：采用如权利要求1或2所述的制作方法制作而成。