[发明专利]光测量装置、方法及光声膜厚测量系统

权利要求书

1.一种光测量装置，其特征在于，所述装置包括：

至少一个泵浦光源，以一定角度发射激励源光束；

光束偏振态调控模块，用于将所述激励源光束调控为非线性偏振状态光束，以使待测对象接收所述非线性偏振状态光束的表面产生至少一形变区域；

所述形变区域对应所述非线性偏振状态获得形变幅度增强，所述形变幅度增强为所述形变区域的表面平均梯度增大。

2.如权利要求1中所述的光测量装置，其特征在于，所述非线性偏振状态包括圆偏振或径向偏振或角向偏振。

3.如权利要求2中所述的光测量装置，其特征在于，所述偏振调控模块包括偏振片和偏振态控制器，所述偏振片用于将所述激励源光束转换为线偏光束，所述偏振态控制用将所述线偏光束调制为所述非线性偏振状态光束。

4.如权利要求3中所述的光测量装置，其特征在于，所述偏振态控制器包括相位延迟器，所述相位延迟器包括具备快轴的相位延迟器和/或不具备快轴的相位延迟器。

5.如权利要求4中所述的光测量装置，其特征在于，所述相位延迟器包括具备快轴的相位延迟器，通过调整所述具备快轴的相位延迟器的快轴与所述激励源的光轴夹角对应调制所述非线性偏振状态，或通过固定所述不具备快轴的相位延迟器的状态对应固定设置所述非线性偏振状态。

6.如权利要求4中所述的光测量装置，其特征在于，其特征在于，所述偏振生成模块包括四分之一波片、超结构波片、向列液晶单元或Metalens中的其中一种或组合。

7.如权利要求1-6中任一项所述的光测量装置，其特征在于，所述泵浦光源之后的下属光路中包括有光学准直器件，用于控制所述入射激励源光束的发散角。

8.一种光测量方法，包括：

发射激励源光束；

将所述激励源光束被调控为非线性偏振状态光束；

使待测对象接收所述非线性偏振状态光束的表面产生至少一形变区域；

所述形变区域对应所述非线性偏振状态获得形变幅度增强，所述形变幅度增强为所述形变区域的表面平均梯度增大；

所述非线性偏振状态包括：圆偏振或径向偏振或角向偏振。

9.如权利要求8中所述的光测量方法，其特征在于，所述非线性偏振状态通过设置偏振调控模块来实现；

所述偏振调控模块包括偏振片和偏振态控制器，所述偏振片用于将所述激励源光束转换为线偏光束，所述偏振态控制用将所述线偏光束调制为所述非线性偏振状态光束。

10.一种具备如权利要求1-7中任意一项中所述的光测量装置的光声膜厚测量系统，其特征在于，包括：

所述光测量装置，使所述待测膜上表面产生至少一形变区域；

对所述形变区域施加探测光，获取所述形变区域对应反射光束(5b)的信号强度峰值变化信息；

计算单元，根据峰值对应的时间间隔计算出待测膜(2)的厚度。