[发明专利]一种具有双连续谱束缚态特性的超构表面在审
| 申请号： | 202111557339.8 | 申请日： | 2021-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN114280710A | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 周一;吴翔 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | G02B5/00 | 分类号： | G02B5/00 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;陆尤 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 双连 束缚态 特性 表面 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有双连续谱束缚态特性的超构表面，其特征在于，是由圆盘或者圆环，以及C型开口环组成的单元经周期延拓形成的阵列，材料为金；其下面有一层金膜作为反射层；金膜下面是作为支撑层三衬底，其中，所述圆盘或者圆环包含在C型开口环内，并紧贴C型开口环内壁；记圆盘或者圆环的外半径为R，C型开口环开口对应弧度为
2.根据权利要求1所述的具有双连续谱束缚态特性的超构表面，其特征在于，所述衬底材料为硅、氧化硅或者玻璃。
3. 根据权利要求1所述的具有双连续谱束缚态特性的超构表面，其特征在于，金膜厚度t 为20—300nm。
4.根据权利要求1所述的具有双连续谱束缚态特性的超构表面，其特征在于，结构单元的参数为：结构阵列的周期P为650-1000nm，圆盘的半径R为100nm-200nm；C型开口环的宽度r为10-120nm；C型开口环的角度
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