[发明专利]一种金属有机骨架材料制备用水循环装置

权利要求书

1.一种金属有机骨架材料制备用水循环装置，包括支撑盘（1）、进水腔体（2）、出水腔体（3）和支撑柱（4），所述进水腔体（2）设于支撑盘（1）下壁，所述支撑柱（4）阵列设于支撑盘（1）上壁，所述出水腔体（3）设于支撑柱（4）上端，其特征在于：所述支撑盘（1）上壁阵列设有文丘里射流自适应清理机构（5），所述文丘里射流自适应清理机构（5）上部设有动态捕捉交替过滤机构（6），所述文丘里射流自适应清理机构（5）包括流通清理支撑体（7）、文丘里射流清理组件（8）和气射流发生往复组件（9），所述流通清理支撑体（7）阵列贯穿设于支撑盘（1）上，所述气射流发生往复组件（9）设于流通清理支撑体（7）内中心处，所述文丘里射流清理组件（8）设于流通清理支撑体（7）内，所述动态捕捉交替过滤机构（6）包括杂质动态捕捉组件（10）和滤网交替传动组件（11），所述杂质动态捕捉组件（10）设于文丘里射流自适应清理机构（5）上，所述滤网交替传动组件（11）设于杂质动态捕捉组件（10）上，所述进水腔体（2）内设有粗过滤清理组件（72）；

所述文丘里射流清理组件（8）包括镂空支撑架（12）、文丘里射流管（13）、自适应控制弹簧（14）、弹簧支撑板（15）、清理固定腔体（16）、清理毛刷（17）、滑动压环（18）、清理支撑管（19）、进气管（20）和负压吸水管（21），所述流通清理支撑体（7）内部设有杂质清理腔（22）和下过滤流通腔（23），所述杂质清理腔（22）与下过滤流通腔（23）阵列相间设置，所述杂质清理腔（22）为盲孔，所述下过滤流通腔（23）为通孔，所述镂空支撑架（12）设于杂质清理腔（22）内壁下部，所述文丘里射流管（13）设于镂空支撑架（12）上，所述弹簧支撑板（15）设于文丘里射流管（13）上端，所述自适应控制弹簧（14）设于弹簧支撑板（15）上壁，所述清理固定腔体（16）设于自适应控制弹簧（14）上端，所述清理支撑管（19）上端设于清理固定腔体（16）下壁中部，所述清理支撑管（19）与清理固定腔体（16）连通，所述清理支撑管（19）贯穿自适应控制弹簧（14），所述滑动压环（18）设于清理支撑管（19）下端，所述清理毛刷（17）设于清理固定腔体（16）上壁，所述清理固定腔体（16）上壁均匀设有清理射流孔（24），所述负压吸水管（21）一端与文丘里射流管（13）的负压区连接，所述负压吸水管（21）另一端与出水腔体（3）连接，所述流通清理支撑体（7）外侧壁下部设有排污口（71），所述排污口（71）与杂质清理腔（22）对应设置；

所述杂质动态捕捉组件（10）包括交换过滤体（25）、清理主动齿轮（26）、清理连接轴（27）、从动齿轮环（28）、过滤板（29）、清理电机（30）、杂质捕捉网（31）和齿轮挡环（32），所述交换过滤体（25）内部阵列设有上过滤流通腔（33），所述交换过滤体（25）一端端面阵列设有从动轮放置槽（34），所述交换过滤体（25）一端端面中心处设有主动轮放置槽（35），所述从动轮放置槽（34）与主动轮放置槽（35）连接，所述从动齿轮环（28）设于从动轮放置槽（34）内，所述过滤板（29）设于从动齿轮环（28）内壁，所述过滤板（29）均匀设有过滤孔（36），所述杂质捕捉网（31）呈半圆环形设置，所述杂质捕捉网（31）设于过滤孔（36）边缘处，所述主动轮放置槽（35）中心处设有电机放置槽（37），所述清理电机（30）设于电机放置槽（37），所述清理主动齿轮（26）设于主动轮放置槽（35）内，所述清理连接轴（27）设于清理主动齿轮（26）上端面中心处，所述清理连接轴（27）另一端与清理电机（30）连接，所述交换过滤体（25）端面阵列设有挡环放置槽（38），所述挡环放置槽（38）与上过滤流通腔（33）对应设置，所述齿轮挡环（32）设于挡环放置槽（38）内；

所述滤网交替传动组件（11）包括电机支撑架（39）、交替旋转电机（40）、交替旋转轴（41）、交替主动锥齿轮（42）和交换从动锥齿轮，所述电机支撑架（39）设于支撑盘（1）上壁中心处，所述交替旋转电机（40）设于电机支撑架（39）内，所述交替主动锥齿轮（42）设于电机支撑架（39）上壁，所述交替旋转轴（41）贯穿电机支撑架（39），所述交替旋转轴（41）下端与交替旋转电机（40）连接，所述交替旋转轴（41）上端与交替主动锥齿轮（42）连接，所述交换从动锥齿轮套设于交换过滤体（25）外壁；

所述气射流发生往复组件（9）包括往复丝杠（44）、主动滑块（45）、密封活塞环（46）、腔体挡板（47）和限位块（48），所述流通清理支撑体（7）上壁设有气射流传动腔（49），所述气射流传动腔（49）外侧设有气射流发生腔（50），所述腔体挡板（47）设于气射流传动腔（49）和气射流发生腔（50）上部开口处，所述往复丝杠（44）下端转动设于气射流传动腔（49）内底壁中心处，所述往复丝杠（44）上端贯穿腔体挡板（47），所述往复丝杠（44）上端设于清理主动齿轮（26）端面上，所述气射流传动腔（49）内侧壁阵列设有限位槽（51），所述主动滑块（45）设于气射流传动腔（49）内，所述限位块（48）阵列设于主动滑块（45）侧壁，所述限位块（48）设于限位槽（51）内，所述主动滑块（45）通过螺纹设于往复丝杠（44）上，所述密封活塞环（46）设于气射流发生腔（50）内，所述限位块（48）侧壁设有磁吸层（52），所述密封活塞环（46）外壁设有磁吸环（53）；

所述流通清理支撑体（7）外壁上部设有上单向进气阀（54），所述上单向进气阀（54）与气射流发生腔（50）相通，所述气射流发生腔（50）外壁上部设有上单向出气阀（55），所述流通清理支撑体（7）外壁下部设有下单向进气阀（56），所述下单向进气阀（56）与气射流发生腔（50）相通，所述气射流发生腔（50）外壁下部设有下单向出气阀（57），所述上单向出气阀（55）与进气管（20）连接，所述下单向出气 阀（ 57 ） 与进气管（20）连接。