[发明专利]基于次流循环阵列的激波/边界层干扰控制装置及自适应控制方法有效

专利信息
申请号: 202111561993.6 申请日: 2021-12-20
公开(公告)号: CN114263533B 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 黄伟;钟翔宇;吴瀚;杜兆波;颜力;徐浩;李世斌 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: F02C7/057 分类号: F02C7/057
代理公司: 长沙国科天河知识产权代理有限公司 43225 代理人: 彭小兰
地址: 410073 湖*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 循环 阵列 激波 边界层 干扰 控制 装置 自适应 方法
【说明书】:

发明公开了一种基于次流循环阵列的激波/边界层干扰控制装置及自适应控制方法中,该装置包括位于流场内的壁板;壁板内设有次流通道,次流通道的一端通过排气槽与流场的上游相通,另一端通过若干呈阵列分布的进气槽与流场的下游相通;进气槽上设有开关结构,以控制各进气槽自适应开关。本发明应用于高超声速进气道内流场流动控制技术领域,其进气槽分布范围较大,当来流马赫数变化时或者流场压力产生振荡时,斜激波位置发生变化,但仍然在进气槽阵列范围内,能形成一个有效的次流循环通路以抑制边界层分离,从而实现宽速域高超声速飞行器进气道内流场激波/边界层干扰现象的控制,且本发明是无源被动控制装置,有着结构简单易实现的优点。

技术领域

本发明涉及高超声速进气道内流场流动控制技术领域,特别针对变马赫数来流条件下的激波/边界层干扰现象的一种宽速域流动控制装置及方法,具体是一种基于次流循环阵列的激波/边界层干扰控制装置及自适应控制方法。

背景技术

在超声速进气道中,激波/边界层干扰现象广泛存在,该现象破坏了流场的稳定性,出现边界层厚度增加、激波诱导边界层分离的现象,从而导致阻力增加,影响进气道效率和启动性能。为减少所引发的负面作用,需要在干扰过程出现之前或在干扰过程中对流动进行控制,也可以分别对激波和边界层进行控制。控制激波的目的是为了改变激波底部的结构,减小激波造成的总压损失。控制边界层则是改变边界层的流动特性,防止或减小激波诱导的边界层分离,降低黏性阻力,设法使激波造成的不稳定流动稳定下来。

目前,针对激波/边界层干扰主要有边界层吹除、边界层抽吸、微型涡流发生器控制、壁面鼓包控制、等离子体控制以及次流循环控制等控制方法,每种方法都有自己独特的优势,但也存在一些缺点。其中,边界层吹除、等离子体等主动控制方法需要额外添加复杂装置,注入额外能量,对材料的热防护有着更高的要求;微型涡流发生器与壁面鼓包会降低流场有效面积,影响进气道性能,且在暴露在高速流场中易损坏;边界层抽吸会造成流体损失,进气道设计面积增大,导致阻力增加。而次流循环控制是一种无源控制方法,无流量损失,也无需额外增加流量,工程实现较为简单,但抽吸孔与干扰分离区的相对位置对控制效果受影响较大,当流场产生振荡、来流马赫数变化导致分离区位置移动时控制效果有限。

发明内容

针对上述现有技术中的不足,本发明提供一种基于次流循环阵列的激波/边界层干扰控制装置及自适应控制方法,不仅具有无源、结构简单、无质量损失等优势,还可以实现对宽速域条件下工作的高超声速飞行器内流场激波/边界层干扰的自适应控制,抑制边界层分离的产生,提高流场性能。

为实现上述目的,本发明提供一种基于次流循环阵列的激波/边界层干扰控制装置,包括位于流场内的壁板;所述壁板内设有次流通道,所述次流通道的一端通过排气槽与流场的上游相通,另一端通过若干呈阵列分布的进气槽与流场的下游相通;每一所述进气槽上均设有开关结构,以控制各所述进气槽自适应开关。其中,所述开关结构包括挡片与阻尼弹簧;所述挡片的一端通过连接轴铰接在所述进气槽入口的一侧,所述挡片的另一端为活动端且与所述进气槽入口的另一侧间隙配合,以使得所述挡片在常态下关闭所述进气槽;所述阻尼弹簧为套设在所述连接轴上的扭簧,且所述阻尼弹簧的一端与所述挡片的底部相连,另一端与所述进气槽的槽壁相连,以使得所述挡片在流场压力下克服所述阻尼弹簧并打开所述进气槽。当来流产生的斜激波入射到进气孔阵列区域时,分离区和激波后壁面处静压升高,进气槽阵列与排气槽处较低的静压存在的压力差,形成次流循环。

作为上述技术方案的进一步改进,当所述进气槽关闭时,所述挡片的表面与所述壁板的壁面平齐。

作为上述技术方案的进一步改进,所述挡片与所述进气槽之间设有限位结构,以避免所述挡片翻入流场。

作为上述技术方案的进一步改进,各所述进气槽呈矩形阵列或沿流场方向的直线阵列分布。

作为上述技术方案的进一步改进,各所述进气槽等间距的呈阵列排列。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军国防科技大学,未经中国人民解放军国防科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111561993.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top