[发明专利]片上光学微腔系统及其光场调控方法

权利要求书

1.一种片上光学微腔系统，其特征在于，包括：

非圆形光学微腔、剪裁体和芯片；

其中，所述非圆形光学微腔和所述剪裁体均集成在所述芯片上，且所述剪裁体位于所述非圆形光学微腔的内部，对应在相空间中对不同传输结构进行针对性调控，以对所述非圆形光学微腔的光学模式进行精准改变；

所述非圆形光学微腔的形状为二维的盘状，用二维极坐标描述为R(φ)＝R₀(1+Σ_n∈N+a_ncos(nφ))；

式中，

φ为角向参数，且满足0≤φ≤2π；

n为正整数且1≤n≤6；

a_n为系数且满足-0.3≤a_n≤0.3；

R₀为半径，且满足1μm≤R₀≤1000μm。

2.根据权利要求1所述的片上光学微腔系统，其特征在于，所述剪裁体的形状至少包括三角形、矩形、多边形、椭圆、不规则形状。

3.根据权利要求1或2所述的片上光学微腔系统，其特征在于，所述剪裁采用量子点、高分子材料体、空气、金、银、硅、石墨烯、铌酸锂、二氧化硅、氮化硅、氮化铝、氮化镓和锗当中的一种。

4.根据权利要求1所述的片上光学微腔系统，其特征在于，所述非圆形光学微腔采用量子点、二氧化硅、硅、氮化硅、铌酸锂、氮化铝、氮化镓和锗当中的一种。

5.一种根据权利要求1所述的片上光学微腔系统的光场调控方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S10：定位非圆形光学微腔的相空间结构；

步骤S20：在非圆形光学微腔内部插入剪裁体，并赋予剪裁体折射、反射、吸收、散射特性，在相空间中观察目标结构的调控是否达到预定目的；

步骤S30：剪裁体对相空间的目标结构的调控达到预定目的后，制备非圆形光学微腔及相应的剪裁体，用于目标实验和产品。