[发明专利]一种地浸渗流场空间分布探测井下仪器在审
| 申请号： | 202111564269.9 | 申请日： | 2021-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN116291403A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 杨正伟;魏宝军;黄鹏飞;周圆圆;王剑;顾中亮;秦淦 | 申请（专利权）人： | 新疆中核天山铀业有限公司 |
| 主分类号： | E21B49/00 | 分类号： | E21B49/00;E21B47/113 |
| 代理公司： | 核工业专利中心 11007 | 代理人： | 张雅丁 |
| 地址： | 835000 新疆维吾尔自治*** | 国省代码： | 新疆;65 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 种地 渗流 空间 分布 探测 井下 仪器 | ||
【权利要求书】：
1.一种地浸渗流场空间分布探测井下仪器，其特征在于：包括主发射激励源T，空间聚焦激励源t和二次场信号探测器R。
2.如权利要求1所述的一种地浸渗流场空间分布探测井下仪器，其特征在于：主发射源有较大的输出功率，聚焦源t输出功率略小，两者相位相反。
3.如权利要求2所述的一种地浸渗流场空间分布探测井下仪器，其特征在于：主发射源和聚焦源有一个固定的源间距。
4.如权利要求3所述的一种地浸渗流场空间分布探测井下仪器，其特征在于：还包括一套DC/DC电源装置。
5.如权利要求4所述的一种地浸渗流场空间分布探测井下仪器，其特征在于：DC/DC电源装置用于把地面供给的直流电源转换为本仪器所需电源。
6.如权利要求5所述的一种地浸渗流场空间分布探测井下仪器，其特征在于：还包括一套单片机系统。
7.如权利要求6所述的一种地浸渗流场空间分布探测井下仪器，其特征在于：单片机系统用于精确控制激励输出功率和聚焦相位，实时按探测需要调整激励输出功率，还控制径向电导率的同步测量和结果计算。
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