[发明专利]一种气体注入插件及衬底处理设备

权利要求书

1.一种气体注入插件，其用于衬底处理设备，所述衬底处理设备包括反应腔、基座及设置在反应腔一侧的气体入口和设置在相对侧的气体出口，所述基座设置在反应腔内，用于承载衬底；所述气体注入插件设置在气体入口处，其特征在于，所述气体注入插件包括：

顶板及底板，所述底板与顶板相对设置，所述底板与顶板均包括设置于两端的进气端和出气端，所述出气端与反应腔一侧的气体入口连接；第一侧壁及第二侧壁，所述第一侧壁及第二侧壁分别设置于顶板和底板的两侧，所述第一侧壁靠近反应腔侧边缘的一侧；

至少两个气体通道，所述气体通道包括设置在靠近反应腔侧边缘的边缘气体通道，所述边缘气体通道具有设置于进气端的进气口和设置于出气端的出气口，所述进气口的截面积和出气口的截面积不相同。

2.如权利要求1所述的气体注入插件，其特征在于，所述气体注入插件还包括：至少一个隔板，所述隔板与顶板及底板连接，用于形成所述气体通道。

3.如权利要求2所述的气体注入插件，其特征在于，所述隔板包括一边缘隔板，所述边缘隔板与第一侧壁共同形成所述边缘气体通道。

4.如权利要求3所述的气体注入插件，其特征在于，所述边缘隔板的厚度均匀。

5.如权利要求4所述的气体注入插件，其特征在于，所述边缘隔板的延申方向与由气体入口指向气体出口的延申线形成夹角。

6.如权利要求5所述的气体注入插件，其特征在于，所述夹角为(0°，-30°]或(0°，30°]。

7.如权利要求3所述的气体注入插件，其特征在于，所述边缘隔板的厚度非均匀，其包括第一表面和与第一表面相对的第二表面，所述第一表面为靠近反应腔侧边缘的一面。

8.如权利要求7所述的气体注入插件，其特征在于，所述第一表面与延申线形成夹角。

9.如权利要求8所述的气体注入插件，其特征在于，所述夹角为(0°，-30°]或(0°，30°]。

10.如权利要求7所述的气体注入插件，其特征在于，所述第二表面与延伸线平行。

11.如权利要求7所述的气体注入插件，其特征在于，所述第二表面与延伸线不平行。

12.如权利要求1所述的气体注入插件，其特征在于，所述底板与顶板的出气端的俯视的轮廓为圆弧，所述圆弧与反应腔的气体入口的形状适配；所述底板与顶板的进气端的俯视的轮廓为直线；第一侧壁与第二侧壁平行。

13.如权利要求1或2所述的气体注入插件，其特征在于，所述气体注入插件还包括：斜坡，所述斜坡设置在边缘气体通道内，用于改变进气口的截面积和出气口的截面积。

14.如权利要求1-12任一所述的气体注入插件，其特征在于，所述气体注入插件为石英、陶瓷、铝或不锈钢的一种或几种的组合。

15.如权利要求1-12任一所述的气体注入插件，其特征在于，所述第一侧壁与延伸线平行或不平行。

16.如权利要求1-12任一所述的气体注入插件，其特征在于，气体注入插件为一体成型的或组装形成的。

17.一种衬底处理设备，其特征在于，包括：

如权利要求1-16任一所述的气体注入插件，

反应腔，

基座，及

设置在反应腔一侧的气体入口和设置在相对侧的气体出口，所述基座设置在反应腔内，用于承载衬底；所述气体注入插件置在气体入口处。