[发明专利]一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202111565902.6 申请日: 2021-12-20
公开(公告)号: CN114277421B 公开(公告)日: 2023-10-03
发明(设计)人: 章俊;金维亮;储少军;肖赛君;寇倩;葛纯涛;庞杰 申请(专利权)人: 安徽工业大学
主分类号: C25D13/02 分类号: C25D13/02
代理公司: 合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙) 34153 代理人: 王林
地址: 243032 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 ti mo 三元 硼化物 涂层 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1:制备含TiB2纳米颗粒的NaCl和KCl固态混合盐:

将NaCl和KCl固体无机盐混合,球磨至微米级后,在球磨好的混合盐中加入重量为混合盐总重量40%~60%的平均粒径为30~100nm的TiB2颗粒,再加入丙酮液体并超声分散,然后在真空干燥箱内抽真空加热,即得含TiB2纳米颗粒的NaCl和KCl固态混合盐;

S2:无机熔盐电泳电化学共沉积制备Ti-Mo-B系三元硼化物涂层:

将NaCl/KCl/AlCl3或NaCl/KCl/AlF3固体无机盐在惰性气体下加热到700℃~900℃熔融,将步骤S1中得到的含TiB2纳米颗粒的NaCl和KCl固态混合盐与MoO3粉先后加入熔融NaCl/KCl/AlCl3或NaCl/KCl/AlF3盐中,形成含有钼离子以及纳米TiB2的无机熔盐,稳定后,将石墨阳极和待沉积阴极插入坩埚中,通电后同时进行钼离子的电化学沉积与纳米TiB2电泳沉积,阴极沉积的钼原子与纳米TiB2反应后即可得到Ti-Mo-B系三元硼化物涂层。

2.如权利要求1所述的一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中NaCl和KCl固体无机盐的摩尔比为1:1。

3.如权利要求1所述的一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中真空加热参数为:加热温度为150~180℃,真空度为30~60Pa,处理时间为1~1.5h。

4.如权利要求1所述的一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中NaCl/KCl/AlCl3固体无机盐中各组元的摩尔比为1:1:0.5~1,NaCl/KCl/AlF3固体无机盐中各组元的摩尔比为1:1:0.2~0.5。

5.如权利要求1所述的一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中钼离子以及纳米TiB2的无机熔盐中TiB2浓度为10~90g/L、钼离子浓度为0.1~0.8mol/L,MoO3粉纯度为分析纯。

6.如权利要求1所述的一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中待沉积阴极的材料为石墨、不锈钢、碳素钢、钛及钛合金与钼及钼合金材料中的任意一种。

7.如权利要求1所述的一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中熔盐电泳电化学共沉积电压为0.8~1.5V。

8.一种采用如权利要求1~7任一项所述的制备方法制得的Ti-Mo-B系三元硼化物涂层。

9.如权利要求8所述的一种Ti-Mo-B系三元硼化物涂层,其特征在于,所述Ti-Mo-B系三元硼化物化学式为TixMo1-xB2,其中0.2≤x≤0.8。

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