[发明专利]一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法在审
申请号: | 202111569343.6 | 申请日: | 2021-12-21 |
公开(公告)号: | CN114014333A | 公开(公告)日: | 2022-02-08 |
发明(设计)人: | 王亮;阎平轩;李宏伟;贺大威;陈茂重;姚心如;潘宏峰;李世洪;冯延铠;姜月;常琳;刘星宇 | 申请(专利权)人: | 中科催化新技术(大连)股份有限公司 |
主分类号: | C01B39/22 | 分类号: | C01B39/22 |
代理公司: | 大连优路智权专利代理事务所(普通合伙) 21249 | 代理人: | 宋春昕 |
地址: | 116318 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 温度 老化 制备 分子筛 方法 | ||
1.一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1.分别称取硅源、铝源、强碱和去离子水;
S2.将强碱用去离子水溶解并搅拌,得到澄清溶液;
S3.将铝源加入澄清溶液中,搅拌至铝源完全溶解且混合溶液呈现为澄清状态,然后将硅源加入到混合溶液中,在室温下搅拌30min;
S4.搅拌完成后,将混合溶液移入以聚四氟乙烯做内衬的不锈钢高压反应釜中,封釜,在多个温度点进行老化,老化后升温至晶化温度,进行晶化;
S5.晶化完成后,将晶化后的产物离心分离,并用去离子水洗涤至pH<9,然后经烘干和焙烧4h后得到低硅X型分子筛。
2.根据权利要求1所述的一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法,其特征在于,所述步骤S1中,按分子比SiO2/Al2O3=2.0-4.0,Na2O/(Na2O+K2O)=0.10-0.90,(Na2O+K2O)/SiO2=1.00-7.50,H2O/(Na2O+K2O)=10.0-50.0,分别称取硅源、铝源、强碱和去离子水。
3.根据权利要求1所述的一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法,其特征在于,所述步骤S1中,硅源包括硅酸钠、硅酸钾、硅溶胶和无定形二氧化硅,铝源包括铝酸钠、铝酸钾、硫酸铝、硝酸铝和氧化铝,强碱包括氢氧化钠和氢氧化钾。
4.根据权利要求1所述的一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法,其特征在于,所述步骤S4中,老化温度为30~70℃,老化温度点为1-4个,每个温度点老化时间为1~4h,晶化温度为80~120℃,晶化时间为2~6h。
5.根据权利要求1所述的一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法,其特征在于,所述步骤S5中,烘干温度为100~120℃,焙烧温度为550℃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中科催化新技术(大连)股份有限公司,未经中科催化新技术(大连)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111569343.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。