[发明专利]一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法在审

专利信息
申请号: 202111569343.6 申请日: 2021-12-21
公开(公告)号: CN114014333A 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 王亮;阎平轩;李宏伟;贺大威;陈茂重;姚心如;潘宏峰;李世洪;冯延铠;姜月;常琳;刘星宇 申请(专利权)人: 中科催化新技术(大连)股份有限公司
主分类号: C01B39/22 分类号: C01B39/22
代理公司: 大连优路智权专利代理事务所(普通合伙) 21249 代理人: 宋春昕
地址: 116318 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 温度 老化 制备 分子筛 方法
【权利要求书】:

1.一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1.分别称取硅源、铝源、强碱和去离子水;

S2.将强碱用去离子水溶解并搅拌,得到澄清溶液;

S3.将铝源加入澄清溶液中,搅拌至铝源完全溶解且混合溶液呈现为澄清状态,然后将硅源加入到混合溶液中,在室温下搅拌30min;

S4.搅拌完成后,将混合溶液移入以聚四氟乙烯做内衬的不锈钢高压反应釜中,封釜,在多个温度点进行老化,老化后升温至晶化温度,进行晶化;

S5.晶化完成后,将晶化后的产物离心分离,并用去离子水洗涤至pH<9,然后经烘干和焙烧4h后得到低硅X型分子筛。

2.根据权利要求1所述的一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法,其特征在于,所述步骤S1中,按分子比SiO2/Al2O3=2.0-4.0,Na2O/(Na2O+K2O)=0.10-0.90,(Na2O+K2O)/SiO2=1.00-7.50,H2O/(Na2O+K2O)=10.0-50.0,分别称取硅源、铝源、强碱和去离子水。

3.根据权利要求1所述的一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法,其特征在于,所述步骤S1中,硅源包括硅酸钠、硅酸钾、硅溶胶和无定形二氧化硅,铝源包括铝酸钠、铝酸钾、硫酸铝、硝酸铝和氧化铝,强碱包括氢氧化钠和氢氧化钾。

4.根据权利要求1所述的一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法,其特征在于,所述步骤S4中,老化温度为30~70℃,老化温度点为1-4个,每个温度点老化时间为1~4h,晶化温度为80~120℃,晶化时间为2~6h。

5.根据权利要求1所述的一种多温度点老化制备低硅X型分子筛的方法,其特征在于,所述步骤S5中,烘干温度为100~120℃,焙烧温度为550℃。

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