[发明专利]一种适用于普抗8μm锂电铜箔延伸率稳定提升的添加剂及其使用方法

权利要求书

1.一种适用于普抗8μm锂电铜箔延伸率稳定提升的添加剂，其特征在于，每升添加剂溶液包括下列质量的溶质组分：苯并咪唑二硫代甲酸丙磺酸钠1-10 mg、邻苯甲酰磺酰亚胺钠1-15 mg、健那绿B 10-50 mg、聚乙二醇1-20 mg、盐酸 5-35 mg。

2.根据权利要求1所述的添加剂，其特征在于，所述添加剂的溶剂为 DI水。

3.一种权利要求1或2所述的添加剂的使用方法，其特征在于，具体使用方法如下：将所述添加剂加入到硫酸铜电解液中，使硫酸铜电解液中各溶质组分的浓度为铜离子90-110g/L、硫酸根100-120 g/L、苯并咪唑二硫代甲酸丙磺酸钠1-10 ppm、邻苯甲酰磺酰亚胺钠1-15 ppm、健那绿B 10-50 ppm、聚乙二醇1-20 ppm、氯离子15-30 ppm，然后利用生箔机进行电沉积，生成普抗8 μm锂电铜箔。

4.根据权利要求3所述的使用方法，其特征在于，所述添加剂加入到硫酸铜电解液中的方式:将添加剂在室温下搅拌均匀后，用计量器具，将添加剂按每小时2-4 L的速度滴加进硫酸铜电解液。

5.根据权利要求3所述的使用方法，其特征在于，所述硫酸铜电解液温度为50-60℃，硫酸铜电解液的上液流量为45 m³/h，电沉积电流为95-115A，电沉积时间为55-75s。

6.根据权利要求3所述的使用方法，其特征在于，所述普抗8 μm锂电铜箔为抗拉强度340-350 MPa，面密度72-73 g/m³，光泽度180-200 Gs，毛面粗糙度0.16-0.20 μm的电解铜箔。