[发明专利]一种金刚石、其光学性质改进方法及制造方法

权利要求书

1.一种金刚石的光学性质改进方法，其特征在于，包括：

在待处理的金刚石的至少部分表面涂覆光学改性涂料，以在所述金刚石表面形成光学改性薄膜，所述光学改性薄膜的透光率低于50％；以及

以激光对所述金刚石未被光学改性薄膜覆盖的至少部分区域进行切割。

2.根据权利要求1所述的光学性质改进方法，其特征在于，所述金刚石包括单晶金刚石和结合在单晶金刚石上的多晶体，所述的方法包括：

以所述单晶金刚石与多晶体的交界面为边界，在所述单晶金刚石表面覆设所述光学改性薄膜；

利用激光沿所述边界将结合在单晶金刚石上的多晶体切割去除。

3.根据权利要求1所述的光学性质改进方法，其特征在于，

所述金刚石包括化学气相沉积金刚石或高温高压生长金刚石；

和/或，所述光学改性涂料包括20-45wt％高分子成膜物质、20-30wt％无机颜料、0-5％wt分散剂以及30-50wt％溶剂，其中所述高分子成膜物质包括：聚氨酯、聚丙烯酸树脂以及环氧树脂中的任意一种或两种以上的组合，所述无机颜料包括：钛白粉、立德粉、氧化锌以及锑白中的任意一种或两种以上的组合；

优选的，所述光学改性涂料还包括2-4wt％碳纳米管和/或纳米金属线，其中碳纳米管的直径为10-50nm、长度为1-10微米，纳米金属线的直径为5-50nm、长度为1-10微米。

4.根据权利要求3所述的光学性质改进方法，其特征在于，具体包括：

对所述金刚石进行表面清洗；

在经清洗后的所述金刚石的至少部分表面涂覆所述光学改性涂料；

将表面涂覆有所述光学改性涂料的所述金刚石置于50-70℃下烘干2-10min，形成所述光学改性薄膜。

5.根据权利要求4所述的光学性质改进方法，其特征在于包括：使所述光学改性薄膜完全覆盖所述金刚石的生长面。

6.根据权利要求1所述的光学性质改进方法，其特征在于，所述光学改性薄膜的厚度为0.01-0.2μm。

7.根据权利要求1所述的光学性质改进方法，其特征在于，所述激光的功率为5-15W，光束直径为4-5mm。

8.根据权利要求7所述的光学性质改进方法，其特征在于，所述切割的持续时间小于15min。

9.一种金刚石的制造方法，其特征在于，包括：

利用化学气相法生长金刚石，所述金刚石包括单晶金刚石和结合在单晶金刚石上的多晶体；

采用权利要求1-8中任一项所述的方法将结合在所述单晶金刚石上的多晶体切割去除；

优选的，所述化学气相沉积法包括微波等离子体化学气相沉积法。

10.利用权利要求1-9任一项所述方法得到的金刚石。