[发明专利]一种引线框架用低残余应力铜合金及其制备方法有效
申请号: | 202111579391.3 | 申请日: | 2021-12-22 |
公开(公告)号: | CN114196850B | 公开(公告)日: | 2022-08-23 |
发明(设计)人: | 刘峰;胡明烈;陈建华;马万军;马吉苗;程万林;夏彬;陈佳程;姜冰灿 | 申请(专利权)人: | 宁波兴业盛泰集团有限公司;宁波兴业鑫泰新型电子材料有限公司 |
主分类号: | C22C9/00 | 分类号: | C22C9/00;C22C9/02;C22C9/04;C22F1/08;C21D9/52;C22C1/03;H01L23/495;B23P15/00 |
代理公司: | 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 | 代理人: | 崔玥 |
地址: | 315336 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 引线 框架 残余 应力 铜合金 及其 制备 方法 | ||
1.一种引线框架用低残余应力铜合金,包括如下质量百分比的组分:Cr 0.38~0.5%,Sn0.2~0.4%,Zn 0.15~0.3%,Si 0.01~0.05%和余量Cu;
所述引线框架用低残余应力铜合金还包括可选元素;所述可选元素包括Mn、La和Ti元素中的至少一种;
所述可选元素的质量分数为0.005~0.03%;
所述Mn、La和Ti元素的质量分数独立地为0.005~0.01%;
所述铜合金包括合金基体和弥散分布于所述合金基体中的析出相;所述析出相包括体心立方结构的球状Cr相和面心立方结构的圆盘状Cr3Si相;所述球状Cr相的粒径为2~10nm;所述圆盘状Cr3Si相的粒径为50~100 nm;
所述铜合金包括如下体积分数的织构:(001)[100]织构5~25%,(112)[11]织构10~15%,(110)[001]织构5~20%,(011)[21]织构5~20%,(123)[63]织构5~15%,(012)[100]织构5~20%,(124)[21]织构5~20%,(113)[12]织构5~20%和(362)[83]织构5~10%。
2.一种如权利要求1所述的引线框架用低残余应力铜合金的制备方法,包括如下步骤:
(1)将合金原料进行熔炼后铸造,得到铜合金铸锭;
(2)将所述步骤(1)得到的铜合金铸锭依次进行热轧、一次冷轧和固溶处理,得到预变形铜合金;所述热轧和一次冷轧的总变形量独立地为85~95%;
(3)将所述步骤(2)得到的预变形铜合金依次进行二次冷轧和一次时效处理,得到再变形铜合金;所述二次冷轧的总变形量为60~85%;
(4)将所述步骤(3)得到的再变形铜合金依次进行三次冷轧和二次时效处理,得到低残余应力引线框架用铜合金;所述三次冷轧的总变形量为40~70%。
3.如权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中固溶处理的保温温度为900~950℃,固溶处理的保温时间为5~200s。
4.如权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中一次时效处理的保温温度为400~500℃,一次时效处理的保温时间为4~12h。
5.如权利要求2所述的制备方法,其特征在于,所述步骤(4)中二次时效处理的保温温度为350~450℃,二次时效处理的保温时间为1~12h。
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