[发明专利]一种基于阵列移动获得无孔差阵的均匀采样方法在审
申请号: | 202111588281.3 | 申请日: | 2021-12-23 |
公开(公告)号: | CN114325564A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 马鹏辉;李建峰;潘晶晶;张小飞 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | G01S3/14 | 分类号: | G01S3/14 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 唐少群 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 阵列 移动 获得 无孔差阵 均匀 采样 方法 | ||
1.一种基于阵列移动获得无孔差阵的均匀采样方法,其特征在于,所述均匀采样方法包括:
步骤S1、针对一物理阵列,确定其阵元位置集合其中,所述物理阵列用于进行DOA估计;
步骤S2、针对步骤S1中的物理阵列,计算其差阵的阵元位置集合
步骤S3、针对步骤S2中得到的阵元位置集合计算其最大连续孔洞的长度h;
步骤S4、以t时刻为阵列初始采样时刻,并依次在时刻t+d/v,t+2d/v,...,进行采样,得到对应时刻的输出值,其中,d等于入射信号半波长的值,v为阵列运动速度;
步骤S5、对步骤S4中得到的不同时刻的输出值进行相位补偿后,再进行合成,得到合成阵列的输出;
步骤S6、对步骤S5中得到的合成阵列采用虚拟化的方法,得到其差阵的输出;
步骤S7、对步骤S6中得到的差阵采用空间平滑类子空间方法,得到最终DOA估计值。
2.根据权利要求1所述的一种基于阵列移动获得无孔差阵的均匀采样方法,其特征在于,在所述步骤S1中,假设所述物理阵列具有N个阵元,则其阵元的位置集合为
3.根据权利要求2所述的一种基于阵列移动获得无孔差阵的均匀采样方法,其特征在于,在所述步骤S2中,差阵的阵元位置集合
4.根据权利要求3所述的一种基于阵列移动获得无孔差阵的均匀采样方法,其特征在于,在所述步骤S4中,当处于初始采样时刻t时,此时的阵列输出矢量为:
公式(1)中,K表示入射到阵列的信源数量,v表示阵列移动的速度,a(θk)为阵列导向矢量,a(θk)=[exp(-j2πd1sinθk/λ),...,exp(-j2πdLsinθk/λ)]T(k∈[1,2,...,K]),sk为信号幅度,w0为入射信号的频率,c为入射信号的传播速度,λ表示入射信号波长;A=[a(θ1),a(θ2),...,a(θK)]为阵列的方向矩阵,s(t)=[s1(t)exp(-j2πvtsin(θ1)/λ,...,sK(t)exp(-j2πvtsin(θK)/λ]表示入射信号矢量,n(t)为噪声矢量。
5.根据权利要求4所述的一种基于阵列移动获得无孔差阵的均匀采样方法,其特征在于,在所述步骤S4中,在时刻t+d/v,t+2d/v,...,进行采样时,其对应的输出值为:
公式(2)和公式(3)中,Q表示为
6.根据权利要求5所述的一种基于阵列移动获得无孔差阵的均匀采样方法,其特征在于,在所述步骤S5中,进行相位补偿,其表达式具体为:
公式(4)和公式(5)中,Q表示为
7.根据权利要求6所述的一种基于阵列移动获得无孔差阵的均匀采样方法,其特征在于,在所述步骤S5中,所述进行合成,其表达式为:
公式(6)中,其中,对应于y(t)的合成阵列的表达式为q∈[1,2,...,Q]。
8.根据权利要求7所述的一种基于阵列移动获得无孔差阵的均匀采样方法,其特征在于,在所述步骤S6中,对合成阵列的输出采用虚拟化的方法,得到相应的差共阵,具体表达式为:
。
9.根据权利要求8所述的一种基于阵列移动获得无孔差阵的均匀采样方法,其特征在于,在所述步骤S7中,所述的空间平滑类子空间方法包括SS-ESPRIT方法。
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