[发明专利]一种用于提高离子真空镀膜均匀性的离子镀膜源装置

说明书

本发明涉及一种用于提高离子真空镀膜均匀性的离子镀膜源装置，包括源底座，源底座上设置有源阳极管和靶材装置，真空腔室上具有连接装置，连接装置和源阳极管之间进行可拆卸式密封装配连接，靶材安装在靶材装置上，源阳极管上设置有用于敲击靶材的敲击装置，还包括对靶材上离化面的平整度进行修整的修面机构。本发明提供的上述技术方案，通过设置的修面机构，使得靶材离化面一直保持平整状态，提高了镀膜的均匀性，使镀膜工艺更稳定，并可大量镀膜，提高产量。

技术领域

本发明涉及离子真空镀膜生产领域，具体涉及一种用于提高离子真空镀膜均匀性的离子镀膜源装置。

背景技术

离子真空镀膜是一种新型表面处理技术，其工作特点是由特殊电子“激发碰撞”靶材表面，将靶材表面离化产生离子，以特定方式经离子镀膜源装置“引导”进入腔室并以特殊方式沉积在工件表面与工件表面结合形成膜层称之为离子真空镀膜。较之普通真空镀膜，离子真空镀膜的镀层附着性能更好，离子镀的粒子更能深入穿透工件表面，形成注入工件很深的扩散层，使膜层与工件表面的结合力更强、更致密，更加持久耐磨，沉积的速率更快，使用的适应范围更广泛。

离子镀膜源是离子真空镀膜设备的重要组成部件，源底座是离子镀膜源不可缺少的一部分，用于支撑夹装靶材，目前离子真空镀膜设备上的源底座都是采用固定式，亦即靶材装置是整体固定在源底座内，因此能够允许的镀膜靶材长度只有30MM，使得连续镀膜时间为8小时。并且靶材表面因离化敲击的作用，会使靶材表面产生凹陷不平，影响离子真空镀膜的膜层均匀性。

发明内容

本发明的目的是提供一种用于提高离子真空镀膜均匀性的离子镀膜源装置，其方案如下：

一种用于提高离子真空镀膜均匀性的离子镀膜源装置，其特征在于，包括源底座，源底座上设置有源阳极管和靶材装置，真空腔室上具有连接装置，连接装置和源阳极管之间进行可拆卸式密封装配连接，靶材安装在靶材装置上，源阳极管上设置有用于敲击靶材的敲击装置，还包括对靶材上离化面的平整度进行修整的修面机构。

具体的方案为：所述的修面机构包括对靶材的离化面进行切削的修面刀具，修面刀具与调节其进行移动的调刀单元相连接，调刀单元用于调整修面刀具在A1、A2状态之间进行切换，A1状态为：修面刀具对靶材的离化面进行修整；A2状态为：修面刀具对靶材的正常镀膜进行避让。

修面刀具的身长方向与源阳极管的中心线相垂直布置，调刀单元用于调整修面刀具沿其身长方向移动实现在A1、A2状态之间的切换。

源阳极管上设置有装配孔，修面刀具滑动装配在装配孔内，修面刀具延伸至源阳极管外侧的端部与调刀单元相连接。

调刀单元采用丝杆螺母调节的方式调节修面刀具沿其身长方向进行移动。

调刀单元包括调节杆，调节杆的一端设置用于固定修面刀具的夹持件，调节杆沿其身长方向活动安装在刀具安装座上，刀具安装座上设置有固定安装的调节螺母，调节杆上设置有螺纹调节段，螺纹调节段与调节螺母组成丝杆螺母调节机构，调节杆的另一端设置用于调整调节螺杆进行移动的调刀组件。

所述的调刀组件包括刀具安装座上转动安装的传动齿轮，传动齿轮和调节杆同步转动且两者沿调节杆的长度方向活动装配，刀具安装座上还设置修整调节电机，传动齿轮和修整调节电机输出轴上设置的驱动齿轮传动连接。

源底座安装在升降装置上，升降装置调整源底座进行升降。

真空腔室通过支撑架安装在底部安装座上，升降装置沿水平方向滑动安装在底部安装座上，移动升降装置调整升降装置和真空腔室之间的水平间距。

底部安装座上设置有滑轨，滑轨上设置有滑动块，升降装置包括滑动块上设置的升降气缸，升降气缸的活塞杆与源底座底部设置的支撑杆件相连接。

本发明提供的上述技术方案，通过设置的修面机构，使得靶材离化面一直保持平整状态，提高了镀膜的均匀性，使镀膜工艺更稳定，并可大量镀膜，提高产量。