[发明专利]一种抗菌可降解的气体阻隔性材料及其制备方法

权利要求书

1.一种抗菌可降解的气体阻隔性材料，其特征在于，由以下重量份的原料组成：可降解聚合物：74～99wt％；离子液体改性的蒙脱土1～20wt％；相容剂：0.1～5wt％；光引发剂0.01～2wt％。

2.根据权利要求1所述的一种抗菌可降解的气体阻隔性材料，其特征在于：所述的可降解聚合物为PBAT或PBAT/PLA合金；

3.根据权利要求1所述的一种抗菌可降解的气体阻隔性材料，其特征在于：所述离子液体改性的蒙脱土的制备步骤如下：蒙脱土与离子液体配成泥浆液(1g：10mL)，超声搅拌分散4h；之后加水搅拌1h，静置，抽滤，在60℃干燥箱中干燥，研磨，过筛，得到离子液体改性的蒙脱土。

4.根据权利要求3所述的一种抗菌可降解的气体阻隔性材料，其特征在于：所述的蒙脱土为粒径200nm的纳基蒙脱土、钙基蒙脱土等其中的一种。

5.根据权利要求3所述的一种抗菌可降解的气体阻隔性材料，其特征在于：所述的离子液体为季铵盐离子液体，阳离子包括季铵离子、咪唑等及其衍生物其中一种，阴离子主要是BF4^-、PF6^-、三氟甲磺酰基等其中一种。

6.根据权利要求1所述的一种抗菌可降解的气体阻隔性材料，其特征在于：所述的相容剂为甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)、异氰酸酯中的一种。

7.根据权利要求1所述的一种抗菌可降解的气体阻隔性材料，其特征在于：所述的光引发剂选自1173(2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮)、184(1-羟基环己基苯基甲酮)、907(2-甲基-2-(4-吗啉基)-1-[4-(甲硫基)苯基]-1-丙酮)中的一种或几种组合物。

8.权利要求1-7任意之一所述抗菌可降解的气体阻隔性材料的制备方法，其特征在于，其步骤为：

(1)可降解材料、离子液体改性蒙脱土、相容剂、光引发剂混合均匀，得到混合原料；

(2)将上述混合的原料，置于啮合同向双螺杆挤出机的主喂料仓中，经喂料螺杆加入到挤出机的机筒内，挤出机螺杆直径为35mm，长径比L/D为40，主机筒从加料口到机头出口的各分区温度设定为：140℃、140℃、140℃、150℃、150℃、160℃、160℃，主机转速为200～300转/分钟，经熔融挤出、冷却、造粒、烘干处理，制得良好气体阻隔性的抗菌可降解材料；

(3)将上述可降解材料在吹膜机械上进行吹塑成型，吹塑温度140℃，膜厚在30～100μm。吹塑后的薄膜材料经过紫外灯光照10s，冷却后收卷。