[发明专利]清洁装置及其清洁机、基站以及控制方法

权利要求书

1.清洁装置，包括用于收集污水的污水箱，其特征在于：污水箱设置有污水腔和排污口，排污口与污水腔可相连通来用于排放污水；

还包括排污机构，排污机构直接或间接的与排污口相连可用于排放污水；

排污机构包括排污件和触动件，排污件设置为呈软性可变形结构且排污件内设置有排污流道来用于污水的通过；

触动件设置为可运动的结构，触动件设置为位于排污件的外侧来构成触动件不与排污流道接触的结构或构成当排污流道内有污水时触动件不与污水接触的结构；

触动件设置为可相对排污件在第一位置和第二位置之间运动，当触动件位于第一位置时排污流道呈打开结构，当触动件位于第二位置时触动件构成对排污件的压接结构使得排污流道呈关闭结构。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于：触动件位于排污件的一侧，且触动件设置为可移动的结构或设置为可旋转的结构，又或触动件设置为可伸缩变形的结构；

触动件上设置有压接部且当触动件接触排污件形成压接结构时设置压接部与排污件接触的位置形成有截流部，截流部设置为呈平面或弧面的面状构造结构，或截流部设置为不呈线状构造结构。

3.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于：设置截流部沿排污流道的长度方向上的距离值H大于等于排污流道的截面上的相对两点之间的距离值的一半；

或设置截流部沿排污流道的长度方向上的距离值H大于等于1毫米；

或设置截流部的面积值大于等于压接部的面积值的一半。

4.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于：压接部上至少设置有一个退压部，退压部设置为相对压接部上朝向排污件方向的外端面呈远离排污件方向来构成凹陷结构，当触动件位于第二位置时退压部在排污件上对应的位置形成有容污部且压接部上的退压部之外的部位在排污件上对应的位置上形成有截流部。

5.根据权利要求4所述的清洁装置，其特征在于：当压接部上设置有一个退压部时则设置退压部位于压接部的中部位置或中心位置使得当触动件位于第二位置时构成容污部的两侧均形成有截流部；

和/或，当压接部上设置有多个退压部时则设置相邻两个容污部之间构成有一个截流部且压接部上沿排污件的长度方向上的两侧位置均构成有截流部使得多个容污部均位于两个截流部之间的区域位置上。

6.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于：至少排污件上靠近触动件的一端位置上设置有朝向排污件的外侧方向呈凸起结构的实压部使得当触动件朝向排污件方向运动时压接部预先接触实压部来形成与排污件之间的压接结构；

或，排污件上设置朝向排污件外侧方向呈环形凸起结构的实压部使得当触动件朝向排污件方向运动时压接部预先接触实压部来形成与排污件之间的压接结构。

7.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于：压接部上沿排污件的长度方向上的两侧位置设置有朝向远离排污件方向呈逐渐倾斜的平面或弧面结构，当触动件位于第二位置时在排污件对应的两侧位置处构成有缓压部，缓压部的截面设置为朝向截流部方向呈逐渐收窄的结构。

8.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于：压接部上朝向排污件方向的端面上设置有导引部，导引部设置呈凸起的弧面或球面结构，且导引部在排污件上进行投影形成的投影区域上的相对两点之间的距离小于排污流道的截面上的相对两点之间的距离。

9.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于：排污件上远离触动件的一侧设置有承压件，承压件设置为至少部分呈接触或包覆排污件的外表面的一部分的结构，且承压件设置为呈软性可变形的结构。

10.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于：排污件上设置有耐压部，至少耐压部的一部分与压接部对应，当触动件运动使得压接部接触排污件时形成与耐压部接触的结构来在耐压部的内侧形成截流部；

耐压部的外表面到排污流道的表面之间的距离大于排污件上耐压部之外的部位位置的外表面到排污流道的表面之间的距离。