[发明专利]用于光学装置的结构、其制备方法、及用于其的可光固化硅氧烷树脂组合物

权利要求书

1.一种用于光学装置的结构，其包括衬底层；形成在所述基板层上的发光元件；以及围绕所述发光元件的保护层，

其中所述保护层包含可光固化硅氧烷树脂组合物的光固化材料，并且

所述可光固化硅氧烷树脂组合物包含：

(A)具有与酸反应的官能团的聚硅氧烷；

(B)光酸产生剂；以及

(C)具有与酸反应的官能团的无溶剂型稀释剂，

其中所述聚硅氧烷在25℃下的粘度是10,000cP至50,000cP，并且所述组合物中所述溶剂的含量是小于4.0重量％。

2.如权利要求1所述的用于光学装置的结构，其中，所述可光固化硅氧烷树脂组合物具有在25℃下20,000cP至40,000cP的粘度。

3.如权利要求1所述的用于光学装置的结构，其中，所述保护层具有透镜形状以漫射光。

4.如权利要求3所述的用于光学装置的结构，其中，所述保护层满足以下关系式(1)：

7.0＞D/t (1)

其中D是所述保护层的直径(mm)，并且t是所述保护层的厚度(mm)。

5.如权利要求1所述的用于光学装置的结构，其中，所述保护层具有1.5或更大的折射率。

6.如权利要求1所述的用于光学装置的结构，其中，所述聚硅氧烷具有由下式1表示的一般结构：

[式1]

R¹_pR²_qSiO_(4-p-q)/2

在上式1中，p和q满足1≤p+q≤3，并且0≤q，p∶q是3∶1至1∶0，R¹含有具有2至6个碳原子的环醚基，并且R²含有具有6至15个碳原子的芳基或芳烷基。

7.如权利要求6所述的用于光学装置的结构，其中，所述聚硅氧烷包含(a-1)衍生自含有环醚基的硅烷化合物的结构单元以及(a-2)衍生自含有芳基或芳烷基的硅烷化合物的结构单元。

8.如权利要求7所述的用于光学装置的结构，其中，所述含有环醚基的硅烷化合物是至少一种由下式2a表示的硅烷化合物或其水解产物：

[式2a]

R¹_aSi(OR³)_4-a

在式2a中，a是1至3的整数，R¹各自含有具有2至6个碳原子的环醚基，并且R³是具有1至6个碳原子的烷基。

9.如权利要求7所述的用于光学装置的结构，其中，所述含有芳基或芳烷基的硅烷化合物是至少一种由下式2b表示的硅烷化合物或其水解产物：

[式2b]

R²_bSi(OR³)_4-b

在式2b中，b是1至3的整数，R²各自含有具有6至15个碳原子的芳基或芳烷基，并且R³是具有1至6个碳原子的烷基。

10.如权利要求1所述的用于光学装置的结构，其中，基于所述聚硅氧烷的100重量份的含量，所述光酸产生剂的含量是0.01至10重量份。

11.如权利要求1所述的用于光学装置的结构，其中，基于所述聚硅氧烷的100重量份的含量，所述稀释剂的含量是0.01至10重量份；并且基于所述光酸产生剂和所述稀释剂的100重量份的总含量，所述稀释剂的含量是30重量份或更高。

12.如权利要求1所述的用于光学装置的结构，其中，所述稀释剂是具有环氧基或缩水甘油基的单体。