[发明专利]一种具有纳米抗菌功能的光学真空镀膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111612253.0 申请日: 2021-12-27
公开(公告)号: CN114318231A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 戴和贵 申请(专利权)人: 丹阳市科达镀膜材料有限公司
主分类号: C23C14/14 分类号: C23C14/14;C23C14/24;C23C14/34;C23C14/54
代理公司: 北京千慕专利代理事务所(普通合伙) 16032 代理人: 管育进
地址: 212300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 纳米 抗菌 功能 光学 真空镀膜 及其 制备 方法
【说明书】:

发明属于高分子材料技术领域,尤其是一种具有纳米抗菌功能的光学真空镀膜及其制备方法,针对纳米抗菌功能较弱的问题,现提出以下方案,一种具有纳米抗菌功能的光学真空镀膜,包括纳米二氧化钛、纳米三氧化二钛、纳米二氧化硅、银、氧化铜和纳米氧化锌,各组的质量分数为:所述纳米二氧化钛为3‑4份,所述纳米三氧化二钛为9‑11份、所述纳米二氧化硅为12‑15份,且纳米二氧化硅直径为20‑60nm之间,所述银为12‑15份,所述银直径为10‑15nm。所述氧化铜为5‑8份。本发明制备时,纳米二氧化钛是白色疏松粉末,屏蔽紫外线作用强,有良好的分散性和耐候性,具有抗线、抗菌、自洁净、抗老化性能,可使膜具备抗菌、自洁净的功能。

技术领域

本发明属于高分子材料技术领域,尤其涉及一种具有纳米抗菌功能的光学真空镀膜及其制备方法。

背景技术

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程,在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求,常用的镀膜法有真空镀膜,为物理镀膜的一种。

现有技术中,具有纳米抗菌功能的光学真空镀膜及其制备方法所制备出膜的纳米抗菌功能较弱,因此,需要一种具有纳米抗菌功能的光学真空镀膜及其制备方法。

发明内容

基于纳米抗菌功能较弱的技术问题,本发明提出了一种具有纳米抗菌功能的光学真空镀膜及其制备方法。

本发明提出的一种具有纳米抗菌功能的光学真空镀膜,包括纳米二氧化钛、纳米三氧化二钛、纳米二氧化硅、银、氧化铜和纳米氧化锌,各组的质量分数为:所述纳米二氧化钛为3-4份,所述纳米三氧化二钛为9-11份、所述纳米二氧化硅为12-15份,且纳米二氧化硅直径为20-60nm之间,所述银为12-15份,所述银直径为10-15nm。所述氧化铜为5-8份,所述纳米氧化锌为23-26份,所述纳米氧化锌为48-54nm。

一种具有纳米抗菌功能的光学真空镀膜的制备方法,包括以下步骤:

S1:放置好万分位电子秤并通电,进行校准清零,在电子秤的托盘上放置容器,再一次校准清零;

S2:打开纳米二氧化钛、纳米三氧化二钛、纳米二氧化硅、银、氧化铜和纳米氧化锌的包装袋,使用药匙依次取出包装袋内的原材料并放置于托盘上的容器内进行称量,每完成一种材料的称量就对电子秤进行校准清零;

S3:将容器内的粉末置于振动机内进行混合振动;

S4:将准备好的原材料放置于真空镀膜机内进行镀膜操作;

S5:待冷却至室温后,使用电镀膜厚测试仪和光谱仪对成品进行测量;

S6:检测完成后,将合格品放置于专用货柜内。

优选地,S1和S2中的称量操作位于密闭无尘车间内,所述电子秤周围空气流速低于一米每分钟。

优选地,S3中的振动机对粉末的振动时间不低于20min。

优选地,S4中的高温操作中的温度不低于1600℃。

优选地,S5中的专用货柜在放置合格品前需进行清洁消毒操作。

与现有技术相比,本发明提供了一种具有纳米抗菌功能的光学真空镀膜及其制备方法,具备以下有益效果:

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