[发明专利]一种抠图数据生成方法、装置、计算机设备及存储介质在审

专利信息
申请号: 202111613442.X 申请日: 2021-12-27
公开(公告)号: CN114240804A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 陈信宇 申请(专利权)人: 深圳万兴软件有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T5/50;G06T7/194;G06V10/774;G06K9/62
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 武志峰
地址: 518000 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 数据 生成 方法 装置 计算机 设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种抠图数据生成方法,其特征在于,包括:

分别获取前景图像和背景图像,并提取所述前景图像中的原始掩膜图像;

将所述原始掩膜图像和背景图像融合为一目标图像;

将所述目标图像输入至抠图模型中,并由所述抠图模型输出所述目标图像的目标掩膜图像;

基于交并比计算所述原始掩膜图像和目标掩膜图像的重叠程度;

将重叠程度在预设重叠范围内的目标掩膜图像所对应的目标图像作为用于训练抠图模型的抠图数据。

2.根据权利要求1所述的抠图数据生成方法,其特征在于,所述分别获取前景图像和背景图像,并提取所述前景图像中的原始掩膜图像,包括:

将所述前景图像转换为灰度图像,并隔离所述灰度图像的边缘像素;

对隔离后的灰度图像进行反转,并创建掩码;

通过位运算提取所述灰度图像的边界信息,并基于所述边界信息对所述灰度图像进行叠加,以此提取得到所述原始掩膜图像。

3.根据权利要求1所述的抠图数据生成方法,其特征在于,所述将所述原始掩膜图像和背景图像融合为一目标图像,包括:

按照下式对所述原始掩膜图像和背景图像进行融合:

M=I*α+B(1-α)

式中,M为所述目标图像,I为所述前景图,α为所述原始掩膜图像,B为所述背景图。

4.根据权利要求1所述的抠图数据生成方法,其特征在于,所述将所述目标图像输入至抠图模型中,并由所述抠图模型输出所述目标图像的目标掩膜图像,包括:

按照下式,计算所述目标掩膜图像中的像素i的特征向量:

X(i)=(cos(h),sin(h),s,v,x,y)

式中,h、s、v分别是HSV颜色空间的坐标值,(x,y)是像素i的空间坐标;

按照下式设置内核函数:

式中,C为权值调节系数,以保证内核函数k(i,j)∈[0,1],||·||为1范数;

基于所述内核函数计算拉普拉斯矩阵L:

L=D-A

式中,相似矩阵Aij=k(i,j),对角矩阵Dii=∑jAij

按照下式构建一封闭形式解的方程,并将所述封闭形式解作为所述目标掩膜图像:

式中,λ为约束系数。

5.根据权利要求1所述的抠图数据生成方法,其特征在于,所述基于交并比计算所述原始掩膜图像和目标掩膜图像的重叠程度,包括:

按照下式计算所述原始掩膜图像和目标掩膜图像的交并比,并将计算结果作为所述重叠程度:

式中,A为所述原始掩膜图像,B为所述目标掩膜图像。

6.根据权利要求1所述的抠图数据生成方法,其特征在于,所述将重叠程度在预设重叠范围内的目标掩膜图像所对应的目标图像作为用于训练抠图模型的抠图数据,包括:

当所述重叠程度在所述预设重叠范围内时,则判定所述目标掩膜图像与所述原始掩膜图像的重叠程度低;

当所述重叠程度未在所述预设重叠范围内时,则判定所述目标掩膜图像与所述原始掩膜图像的重叠程度高;

将重叠程度低的目标掩膜图像对应的目标图像设置为所述抠图数据。

7.根据权利要求1所述的抠图数据生成方法,其特征在于,所述将所述原始掩膜图像和背景图像融合为一目标图像之前,包括:

基于预设数据生成策略对所述前景图像和原始掩膜图像进行预处理,并采用预处理后的原始掩膜图像与所述背景图像进行融合;其中,所述预设数据生成策略由随机前景模糊、随机前景旋转角度和颜色转换任意组合得到。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳万兴软件有限公司,未经深圳万兴软件有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111613442.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top