[发明专利]一种低压驱动冲击冷却结构在审

专利信息
申请号: 202111616263.1 申请日: 2021-12-27
公开(公告)号: CN114320483A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 陶智;姚广宇;朱剑琴;邱璐;李地科;王燕嘉 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: F01D5/18 分类号: F01D5/18
代理公司: 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 代理人: 彭豆
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 低压 驱动 冲击 冷却 结构
【权利要求书】:

1.一种低压驱动冲击冷却结构,其特征在于,该冷却结构包括:

层板冷却结构(1);

所述层板冷却结构(1)形成于双层壁叶片的冷气夹层处;

所述层板冷却结构(1)一端为高压区(101),所述层板冷却结构(1)另一端为低压区(102);

所述层板冷却结构(1)的高压区(101)处开设有冲击孔(103),所述层板冷却结构(1)的低压区(102)开设有驱动孔(104)。

2.根据权利要求1所述的一种低压驱动冲击冷却结构,其特征在于,所述层板冷却结构(1)一端延伸至叶片前缘区域,所述层板冷却结构(1)另一端延伸至叶背区域或尾缘区域;

所述叶片前缘区域被配置为所述高压区(101);

所述叶背区域或尾缘区域被配置为低压区(102)。

3.根据权利要求2所述的一种低压驱动冲击冷却结构,其特征在于,叶片内部形成有内部通道(106);

所述冲击孔(103)和所述驱动孔(104)通过所述内部通道(106)连通;

流经所述冲击孔(103)的冷气通过所述内部通道(106)的整流流向所述低压区(102)。

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