[发明专利]一种高矫顽力钕铈铁硼永磁体及其制备方法和应用在审
申请号: | 202111619345.1 | 申请日: | 2021-12-27 |
公开(公告)号: | CN114284019A | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 于永江;安仲鑫;刘磊;张聪聪;耿国强 | 申请(专利权)人: | 烟台正海磁性材料股份有限公司 |
主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057;H01F41/02 |
代理公司: | 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 | 代理人: | 张炳楠 |
地址: | 264006 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 矫顽力 钕铈铁硼 永磁体 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种钕铈铁硼永磁体,其特征在于,所述钕铈铁硼永磁体具有以下特征中的至少一种:
磁体内晶界富RE相的面积占整个视野面积的4%以上;
磁体内晶界富RE相呈均匀细小的分布;
位于三个以上主相晶粒交隅处的团块状晶界富RE相的面积与周边三个以上所有相邻主相晶粒的总面积比值的均值≤30%。
2.根据权利要求1所述的钕铈铁硼永磁体,其特征在于,所述RE包括钕(Nd),还可以包括选自下述稀土元素中的至少一种:铈(Ce)、镧(La)、镨(Pr)、钇(Y)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)和钬(Ho)。
优选地,磁体内晶界富RE相的面积占整个视野面积的6%以上。
优选地,位于三个以上主相晶粒交隅处的团块状晶界富RE相的面积与周边三个以上所有相邻主相晶粒的总面积的比值的均值≤15%,更优选为≤10%,更优选为≤7%。
优选地,所述主相具有R2Fe14B结构。
优选地,所述钕铈铁硼永磁体的主相晶粒的平均粒径为5-10μm。
3.根据权利要求1或2所述的钕铈铁硼永磁体,其特征在于,所述钕铈铁硼永磁体具有如下化学式:(CeaRHbRL1-a-b)xFe100-x-y-zTMyBz;
其中:20≤x≤40,0.5≤y≤10,0.9≤z≤1.5,0.05≤a≤0.65,0≤b≤0.25;RH元素为Dy、Tb、Ho、Gd中的至少一种,RL元素选自Pr、Nd、La、Y中的至少一种,且至少含有Nd;TM元素为Co、Cu、Ga、Al、Zr和Ti中的至少一种。
优选地,25≤x≤35,1≤y≤5,0.9≤z≤1.3,0.05≤a≤0.25,0.01≤b≤0.1。
4.权利要求1-3任一项所述的钕铈铁硼永磁体的制备方法,其特征在于,所述方法:由包括Ce元素、RL元素、Fe元素、TM元素、B元素的原料,和任选存在或不存在的RH元素的原料制粉、压制、烧结、时效处理,制备得到所述钕铈铁硼永磁体。
优选地,所述方法包括:由包括Ce元素、RL元素、Fe元素、TM元素、B元素、RH元素的原料经过制粉、压制、烧结,制备得到所述钕铈铁硼永磁体。
优选地,所述方法中还添加润滑剂,所述润滑剂选自硬脂酸钙、硬脂酸锌、硼酸三丁脂、异丙醇、石油醚中一种或者多种。优选地,所述润滑剂的用量可以为粉体总重量的0.01-2wt%。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述方法还包括:(K1)先分别制备无Ce的主相合金鳞片和含Ce的辅相合金鳞片;
其中,无Ce的主相合金鳞片是将RL元素、Fe元素、TM元素和B元素、和任选存在或不存在的RH元素的原料经熔炼、冷凝,制备成合金鳞片;
含Ce的辅相合金鳞片是将Ce元素、RL元素、Fe元素、TM元素和B元素、和任选存在或不存在的RH元素的原料经熔炼、冷凝,制备成合金鳞片;
(K2)将步骤(K1)中无Ce的主相合金鳞片和含Ce的辅相合金鳞片分别经氢破碎、脱氢、气流磨制成合金粉末;任选加入或者不加入润滑剂,压制、烧结、时效处理,制备得到所述钕铈铁硼永磁体。
优选地,所述方法还包括:(S1)先分别制备无Ce的主相合金鳞片和含Ce的辅相合金鳞片,并分别经氢破碎、脱氢、气流磨制成主相合金粉末和辅相合金粉末;
所述无Ce的主相合金鳞片和含Ce的辅相合金鳞片具有如上含义;
(S2)将步骤(S1)中主相合金粉末和辅相合金粉末混合,任选加入或者不加入润滑剂,压制、烧结、时效处理,制备得到所述钕铈铁硼永磁体。
优选地,步骤(S2)中,将步骤(S1)中主相合金粉末和辅相合金粉末混合,并加入润滑剂,压制、烧结、时效处理,制备得到所述钕铈铁硼永磁体。
优选地,步骤(S2)中,主相合金粉末和辅相合金粉末的质量比为(1-40):1。
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