[发明专利]遮挡效果的渲染方法、装置、计算机设备及可读存储介质在审
申请号: | 202111620996.2 | 申请日: | 2021-12-27 |
公开(公告)号: | CN114332333A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 栾小雨 | 申请(专利权)人: | 上海完美时空软件有限公司 |
主分类号: | G06T15/20 | 分类号: | G06T15/20;G06T15/04;A63F13/52 |
代理公司: | 北京中强智尚知识产权代理有限公司 11448 | 代理人: | 贾依娇 |
地址: | 200000 上海市杨*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 遮挡 效果 渲染 方法 装置 计算机 设备 可读 存储 介质 | ||
1.一种遮挡效果的渲染方法,其特征在于,包括:
确定待渲染遮挡物,将所述待渲染遮挡物写入创建的临时渲染纹理;
获取待渲染模型,在写入有所述待渲染遮挡物的所述临时渲染纹理中写入所述待渲染模型,得到中间渲染纹理;
在所述中间渲染纹理上确定遮挡区域,采用预设遮挡纹理对所述中间渲染纹理中的所述遮挡区域进行绘制,得到遮挡效果贴图,所述遮挡区域是所述待渲染遮挡物与所述待渲染模型在所述中间渲染纹理上相交形成的区域;
将所述遮挡效果贴图与所述待渲染模型进行整合,得到所述待渲染遮挡物对所述待渲染模型的遮挡效果。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述待渲染遮挡物写入创建的临时渲染纹理,包括:
创建临时的单通道贴图,将所述单通道贴图作为所述临时渲染纹理;
将所述待渲染遮挡物渲染至所述临时渲染纹理中,在所述临时渲染纹理中确定被所述待渲染遮挡物覆盖的多个指定像素;
在所述临时渲染纹理的模板缓冲区,为所述多个指定像素中每个指定像素写入预设数值;
确定所述多个指定像素在所述待渲染遮挡物上的多个映射位置,将所述多个映射位置中每个映射位置在所述待渲染遮挡物上对应的第一像素深度值写入所述临时渲染纹理的深度缓冲区,得到写入有所述待渲染遮挡物的所述临时渲染纹理。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定待渲染遮挡物,包括:
确定待渲染特效,查询所述待渲染特效对应的特效节点;
基于所述特效节点进行特效演示,形成特效区域;
提取所述特效区域的区域轮廓,按照所述区域轮廓绘制半透明几何体,将所述半透明几何体作为所述待渲染遮挡物。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在写入有所述待渲染遮挡物的所述临时渲染纹理中写入所述待渲染模型,得到中间渲染纹理,包括:
将所述待渲染模型渲染至写入有所述待渲染遮挡物的所述临时渲染纹理;
在所述临时渲染纹理写入的所述待渲染遮挡物上,确定被所述待渲染模型覆盖的多个指定位置;
确定所述多个指定位置中每个指定位置在所述待渲染模型上对应的第二像素深度值,得到所述中间渲染纹理。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述确定所述多个指定位置中每个指定位置在所述待渲染模型上对应的像素深度值,得到所述中间渲染纹理之后,所述方法还包括:
对于所述多个指定位置中每个指定位置,获取所述指定位置在所述深度缓冲区中对应的目标第一像素值,确定所述指定位置对应的目标第二像素值;
当所述目标第二像素值大于所述目标第一像素值时,为所述指定位置添加深度标签。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述中间渲染纹理上确定遮挡区域,包括:
对所述中间渲染纹理的模板缓冲区进行检测,在所述模板缓冲区中提取写入有预设数值的初始贴图区域;
对所述初始贴图区域的深度缓冲区进行检测,在所述深度缓冲区中确定添加有深度标签的多个目标位置;
提取所述多个目标位置,将所述多个目标位置形成的区域作为所述遮挡区域。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述遮挡效果贴图与所述待渲染模型进行整合,得到所述待渲染遮挡物对所述待渲染模型的遮挡效果,包括:
对加载有所述待渲染模型的虚拟场景进行渲染,生成原始场景画面;
对所述遮挡效果贴图进行采样,得到所述遮挡效果贴图的贴图像素;
采用预设混合方式,将在所述遮挡效果贴图中采样得到的贴图像素与所述原始场景画面的画面像素进行混合,得到所述待渲染遮挡物对所述待渲染模型的遮挡效果。
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