[发明专利]一种掩模版传输组件及光刻系统

说明书

本发明公开了一种掩模版传输组件及光刻系统，包括第一版库，用于承载版盒，第一版库连接有第一升降结构，以通过第一升降结构将目标掩模版传输至第一交接工位；第一机械手，被配置为在第一交接工位获取目标掩模版，并放入第二版库；第二版库，用于承载目标掩模版，第二版库连接有第二升降结构，以通过第二升降结构实现在第一交接工位与第二交接工位之间的移动，第二交接工位具有第二高层，且第二高层高于第一高层；第二机械手，被配置为在第二交接工位，从第二版库中取出目标掩模版，并传输至光刻机的掩模台。本公开的掩模版传输组件及光刻系统，通过可升降的第一版库和第二版库的配合，实现友好上料的同时提高掩模版的转运效率。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种掩模版传输组件及光刻系统。

背景技术

掩模版是光刻工艺不可缺少的物料，掩模版上承载有设计图形，光线透过图形，把设计图形投射在晶圆上。掩模传输是将掩模版从版库加载到掩模台，或者是从掩模台卸载至版库的过程。物料经过传输具备一定属性，如位置精度、温度、洁净度，同时为了实现产能，要求掩模版能够进行快速切换，先进制程的GKJ体积较大，内部结构复杂，且精密部位如物镜、工件台和对准系统均位于设备内部中心区域，设备的可维护性是重要的考量因素。

现有技术中版盒加载高度较高，由于掩模台位于设备顶部，为了简化机械结构，版盒的加载高度与掩模台位于同一高度，人工放置料盒高度不友好。

发明内容

本发明实施例提供一种掩模版传输组件及光刻系统，用以通过可升降的第一版库和第二版库的配合，实现友好上料的同时，提高掩模版的转运效率。

本公开实施例提出一种掩模版传输组件，包括第一版库，第二版库，第一机械手和第二机械手；

所述第一版库，用于承载版盒，所述版盒内存储有目标掩模版，所述第一版库连接有第一升降结构，以通过所述第一升降结构将目标掩模版传输至第一交接工位，其中，所述第一交接工位具有第一高程；

所述第一机械手，被配置为在第一交接工位获取目标掩模版，并放入所述第二版库；

所述第二版库，用于承载目标掩模版，所述第二版库连接有第二升降结构，以通过所述第二升降结构实现在第一交接工位与第二交接工位之间的移动，所述第二交接工位具有第二高层，且所述第二高层高于所述第一高层；

所述第二机械手，被配置为在第二交接工位，从所述第二版库中取出目标掩模版，并传输至光刻机的掩模台。

在一些实施例中，所述第一机械手具有三向运动的三个运动轴，且所述第一机械手设置有第一版叉，所述第一版叉的规格与目标掩模版相匹配。

在一些实施例中，所述第一版叉与各运动轴之间通过第一传感器实现安装；

所述第一传感器具有多个自由度，其被配置为在所述版叉取放掩模版的过程中任意方向发生碰撞的情况下，被触发，以实现中止传输流程。

在一些实施例中，还包括第一气浴部；所述第一气浴部，被配置为在所述第一机械手转运所述目标掩模版过程中，向目标掩模版提供气流。

在一些实施例中，还包括第二气浴部；所述第二气浴部，设置在所述第二版库侧面，用以向所述第二版库中的目标掩模版提供气流。

在一些实施例中，所述第二版库，设置有多个版槽，各版槽用于存储一块目标掩模版，且该版槽具有吸附部，所述吸附部，用以向目标掩模版提供吸附功能。

在一些实施例中，所述第二机械手包括至少两个第二版叉，所述至少两个第二版叉对称分布，且所述至少两个第二版叉可基于第一转轴进行切换。

在一些实施例中，所述第一版库和所述第二版库，分别通过相应的转轴进行安装。