[发明专利]一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法

说明书

本发明公开了一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，属于光学镜头防污、抗指纹领域。本发明包括安装在设备上方的蒸发源单体，蒸发源单体包括药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口，所述药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口从上至下依次密封固定联接，该真空腔体安装在蒸发源单体的下方，蒸发源接口与真空腔体接驳。本发明采用带旋转机构的蒸发源系统，多套蒸发源系统更换工作，能够使加热器有足够时间冷却并添加药液，实现节拍3～5分钟快速AF(AS)连续镀膜生产，大规模批量化生产成为现实；采用矩阵式AF蒸发源点阵，在确保均匀性及耐磨性前提下，AF药液用量的经济最优化实现。

技术领域

本发明属于光学镜头防污、抗指纹领域，尤其涉及一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法。

背景技术

目前AF(AS)镀膜技术包括两大类，分别是AF(AS)大气喷涂技术、AF(AS)真空镀膜技术。前者Si-F键结合度较差，耐磨性能有限，不适宜于高端产品使用；后者Si-F键结合度较好，但生产节拍较慢，且存在AF药液大量浪费问题。一般地现有AF镀膜的生产节拍在30分钟或更长时间，AF药液浪费问题也十分明显，因均匀性及耐磨性的要求，AF药液使用量存在2～5倍的浪费。

发明内容

本发明的目的在于提供一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，旨在解决所述背景技术中存在的问题。为实现所述目的，本发明采用的技术方案是：

一种AF连续真空镀膜设备及其均匀性控制方法，包括安装在设备上方的蒸发源单体，所述蒸发源单体包括药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口，所述药液接口、蒸发源系统与蒸发源接口从上至下依次密封固定联接，真空腔体安装在所述蒸发源单体的下方，所述蒸发源接口与所述真空腔体接驳。

具体的，蒸发源单体数量不少于2个，本实施例中设计有12个蒸发源单体，蒸发源单体的数量还可以是6个、8个等组合，多个蒸发源单体构成蒸发源点阵；药液接口具体包括药液添加系统、真空阀门系统与用于称量药液重量的精密计量泵，在药液添加过程需要开启真空阀门系统，防止空气进入到真空腔体内部，影响到镀膜基板的质量。在药液添加完成后真空阀门及真空泵系统启动抽真空，确保蒸发源单体进入高真空环境后，才可以与真空腔体进行真空接驳，进入到蒸发源单体准备工作阶段。

具体的，蒸发源系统包括加热器、旋转机构、升降机构与药液工位，加热器安装在蒸发源系统内部并靠近药液工位，旋转机构呈圆环状与蒸发源系统外侧固定安装。旋转机构用于控制蒸发源系统的更换，所述蒸发源系统数量不少于2个，本实施例中每个蒸发源单体内部设有8个蒸发源系统，设置多个蒸发源系统能够让加热器拥有足够的时间散热并添加药液，提高生产效率。真空腔体设置有真空泵组，真空泵组内的真空泵数量不少于2个，采用冗余设计，不仅快速抽真空，在某台真空泵出现故障时还能够持续工作，确保生产工作不中断。整个设备还包括中央控制系统、反馈系统，全自动化运行，节省人力。

一种连续真空镀膜设备的均匀性控制方法，应用于上述的连续真空镀膜设备，包括：(1)镀膜基板放置在真空仓体内，并对真空仓体进行抽气，直至达到为10-4Pa～10-3Pa；(2)药液接口的药液添加系统启动，通过精密计量泵称量好的药液输送到蒸发源系统；(3)蒸发源点阵的蒸发源系统启动，装好药液的蒸发源系统通过旋转机构、升降机构到达预定位置，加热器加热到预设温度，当一个蒸发源系统的加热器过热后药液用完后，旋转机构转动更换下个蒸发源系统；

(4)该镀膜基板镀膜完成后更换镀膜基板，旋转机构旋转更换下个蒸发源系统并升降到预定位置；

(5)以此类推，直至所有的镀膜材料镀膜完成，关闭整个电气系统。