[发明专利]一种梯形结构顶部抗反射涂层聚合物和顶部抗反射涂层组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种梯形结构顶部抗反射涂层聚合物，其特征在于，所述梯形结构顶部抗反射涂层聚合物具有如式(1)所示的结构：

式(1)中，R₁为C₁-C₂₀的亚烷基，优选为C₁-C₁₀的亚烷基，更优选为C₆-C₁₀的亚烷基；R₂为C₁-C₂₀的亚烷基，优选为C₁-C₁₀的亚烷基，更优选为C₁-C₆的亚烷基；p、m、n为各重复单元的摩尔分数，p:m:n的比例为(0.25～0.9):(0.1～0.75):(0.1～0.75)，优选为(0.6～0.9):(0.1～0.4):(0.1～0.4)。

2.根据权利要求1所述的梯形结构顶部抗反射涂层聚合物，其特征在于，所述梯形结构顶部抗反射涂层聚合物的重均分子量为50,000～100,000道尔顿，分子量分布为1.8～2.2。

3.一种梯形结构顶部抗反射涂层聚合物的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

(1)在惰性气体氛围下，将式(2)所示单体在螺旋选择性聚合催化剂和有机胺的存在下进行螺旋选择性聚合反应，得到螺旋结构聚合物；

(2)在惰性气体氛围下，将步骤(1)所得螺旋结构聚合物在非环二烯烃易位聚合催化剂的存在下进行非环二烯烃易位聚合反应；

R₁为C₁-C₂₀的亚烷基，优选为C₁-C₁₀的亚烷基，更优选为C₆-C₁₀的亚烷基；R₂为C₁-C₂₀的亚烷基，优选为C₁-C₁₀的亚烷基，更优选为C₁-C₆的亚烷基。

4.根据权利要求3所述的梯形结构顶部抗反射涂层聚合物的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述螺旋选择性聚合催化剂为铑配位体催化剂，优选为氯化降冰片二烯铑二聚体；所述有机胺为手性有机胺，优选为(R)-(+)-1-苯基乙胺。

5.根据权利要求3所述的梯形结构顶部抗反射涂层聚合物的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述非环二烯烃易位聚合催化剂为Grubbs催化剂和/或Schrock催化剂，优选为Grubbs催化剂，更优选为Grubbs二代催化剂。

6.根据权利要求3所述的梯形结构顶部抗反射涂层聚合物的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述螺旋选择性聚合反应的条件包括温度为0～30℃，时间为4～6h；步骤(2)中，所述非环二烯烃易位聚合反应的条件包括温度为0～30℃，时间为24～48h。

7.由权利要求3～6中任意一项所述的方法制备得到的梯形结构顶部抗反射涂层聚合物。

8.一种顶部抗反射涂层组合物，其特征在于，所述顶部抗反射涂层组合物含有权利要求1、2和7中任意一项所述的梯形结构顶部抗反射涂层聚合物、酸扩散抑制剂和有机溶剂。

9.根据权利要求8所述的顶部抗反射涂层组合物，其特征在于，相对于100重量份的所述梯形结构顶部抗反射涂层聚合物，所述酸扩散抑制剂的含量为1～15重量份，所述有机溶剂的含量为1000～3000重量份；优选地，所述酸扩散抑制剂为L-苯丙氨酸；优选地，所述有机溶剂为正丁醇。

10.权利要求8或9中所述的顶部抗反射涂层组合物的制备方法，其特征在于，该方法包括将梯形结构顶部抗反射涂层聚合物和酸扩散抑制剂溶解于有机溶剂中。