[发明专利]极片及电化学装置在审
| 申请号： | 202111633792.2 | 申请日： | 2021-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN114335560A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 韦奋崇;周乔;彭宁 | 申请（专利权）人： | 珠海冠宇电池股份有限公司 |
| 主分类号： | H01M4/70 | 分类号： | H01M4/70;H01M4/13;H01M10/0525 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 孙静;刘芳 |
| 地址： | 519180 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 电化学 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种极片，其特征在于，包括集流体、以及设置在所述集流体的至少一个表面的活性物质层；所述活性物质层背离所述集流体的表面设有多个不穿透所述活性物质层的凹槽，所述凹槽沿所述活性物质层的延伸方向排布。
2.根据权利要求1所述的极片，其特征在于，所述凹槽的深度为5μm～100μm。
3.根据权利要求1所述的极片，其特征在于，所述凹槽平行于活性物质层厚度方向的截面的最大长度为5μm～100μm。
4.根据权利要求1所述的极片，其特征在于，两个相邻的凹槽之间的距离为5μm～1000μm。
5.根据权利要求1所述的极片，其特征在于，所述凹槽平行于活性物质层厚度方向的截面的形状包括多边形和/或具有开口的非完整圆形。
6.根据权利要求5所述的极片，其特征在于，
所述具有开口的非完整圆形包括半圆形；和/或，
所述多边形包括四边形，所述四边形包括梯形、长方形、正方形中的至少一种。
7.根据权利要求1所述的极片，其特征在于，两个相邻凹槽的中心点间距为10μm～1100μm。
8.根据权利要求1所述的极片，其特征在于，所述凹槽的凹陷方向均相同，两个相邻的凹槽之间通过凸起部连接。
9.根据权利要求1所述的极片，其特征在于，所述极片为正极片或负极片。
10.一种电化学装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的极片。
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